[实用新型]一种具有凹凸立体感的清洁百洁布有效

专利信息
申请号: 201320580696.0 申请日: 2013-09-18
公开(公告)号: CN203468551U 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 于淞宏 申请(专利权)人: 于淞宏
主分类号: A47L17/00 分类号: A47L17/00;A47L13/16;D03D15/00;D03D13/00
代理公司: 浙江杭州金通专利事务所有限公司 33100 代理人: 赵红英
地址: 311200 浙江省杭州市萧山区所*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 凹凸 立体感 清洁 百洁布
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及清洁洗涤用品领域,具体涉及一种清洁百洁布。

背景技术

现在市场上销售的百洁布一般采用单层或者多层棉布制成,该种百洁布的优点是吸水性好,使用初期能够快速清洁,但是在使用一段时间后棉布纤维由于其韧性和牢固差,易坏从而造成使用周期短形成浪费;此外传统的百洁布表面为平面状或者平面图案不具立体感和粗糙感,故摩擦力系数不够,去污效果不够理想,不方便快速清洗。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是:针对现有技术的缺陷和不足,提供一种具有立体感的清洁百洁布,增加了清洁布摩擦系数,具有吸水和吸油性强、不易损坏的特点,延长了使用寿命。

为了解决上述技术问题,本实用新型采用以下技术方案:

一种具有凹凸立体感的清洁百洁布,它包括由经纱和纬纱编织而成的底布,其特征在于:该底布经提花由经纱或纬纱浮起的浮长区构成组织循环单元,沿经向和纬向循环排列形成具有凹凸立体感的图案,该底布叠在一次性织造成型的多层网布层上,所述底布与多层网布层由四周缝制的拷边连接。

所述经纱和纬纱采用天然纺织原材料竹浆纤维、麻纤维或棉纤维。

所述网布层为二至八层。

所述经纱或纬纱浮起后形成的浮长区呈阶梯状排列,且相邻两根经纱或纬纱的浮长依次增加,经向飞数或纬向飞数为3~10。

采用上述结构后,本实用新型有益效果为:本实用新型所述的一种清洁百洁布,经提花由经纱或纬纱浮起形成不同的具有凹凸感图案,再结合一次性织造成型的双层网布或多层网布,形成其一面具有摩擦力和另一面具有快速吸水的多层网纱布;它具有吸水和吸油性强,增加了清洁布摩擦系数,不易损坏,延长了使用寿命。

附图说明

此处所说明的附图是用来提供对本实用新型的进一步理解,构成本申请的一部分,但并不构成对本实用新型的不当限定,在附图中:

图1是本实用新型的结构示意图;

图2是图1的A部放大图;

图3为网布层结构示意图。

附图标记说明:

    1、经纱;2、纬纱;3、经组织点;4、纬组织点;5、拷边层。

具体实施方式

下面将结合附图以及具体实施例来详细说明本实用新型,其中的示意性实施例以底框体及说明仅用来解释本实用新型,但并不作为对本实用新型的限定。

如图1、图2所示,本实用新型所述的一种清洁百洁布,它包括由经纱1和纬纱2编织而成的底布,该底布经提花由经纱或纬纱浮起的浮长区构成组织循环单元,沿经向和纬向循环排列形成具有凹凸立体感的图案,使经纱、纬纱浮在花型的表面,形成不同的图案,该底布叠在一次性织造成型的多层网布层上,底布与多层网布层由四周缝制的拷边5连接。底布的经纱和纬纱采用天然纺织原材料竹浆纤维、麻纤维或棉纤维。底布的经、纬纱线的密度每公分18-60根。

参见图3,网布层为一次性织造成二层至八层的中空层数,网布层经纱和纬纱采用天然纺织原材料竹浆纤维、麻纤维或棉纤维。网布层的经、纬纱线的密度每公分5-20根。

本实用新型采用若干层网布层和底布合成,制成的百洁布一面是具有凹凸立体感的图案,一面是多层网布层,形成其一面具有摩擦力和另一面具有快速吸水的多层网纱布;采用天然纺织原材料竹浆纤维、麻纤维或棉纤维,增强吸水性能,在底布表面设置带各种图案的表面图案层,用来增加摩擦系数,增加在清洗时的摩擦力,它具有吸水和吸油性强,增加了清洁布摩擦系数,不易损坏,延长了使用寿命。

本实用新型在制作时,底布上的经组织点3和纬组织点4相互交织成循环的菱形几何图形,经纱或纬纱浮起后形成的浮长区呈阶梯状排列,且相邻两根经纱或纬纱的浮长依次增加,经向飞数或纬向飞数为3~10。再采用提花由经纱1或纬纱2浮起,形成具有凹凸立体感的图案。    

上述百洁布的用途,是将上述百洁布缝合成一小口袋,在该小口袋内设置吸水海绵并加以封口,制成清洁用品。

本实用新型百洁布测试性能如下:

吸水量:750 ml/m2 -2500 ml/m2

经检测,百洁布细菌菌落总数、大肠菌群、金黄色葡萄球菌、绿脓杆菌、真菌菌落总数、溶血性链球菌符合GB15979-2002《一次性使用卫生用品》卫生标准。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式,故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰,均包括于本实用新型专利申请范围内。

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