[实用新型]一种对反应炉炉盖进行升降和翻转的机构

说明书

技术领域

本实用新型属于半导体外延生长设备领域，特别涉及到MOCVD反应炉配套机构。

背景技术

近年来，LED生产技术不断进步，生产成本不断降低，亮度不断提高。以其能耗低、寿命长、无污染、体积小等优点得以迅猛发展。LED在室内外显示屏、交通灯、照明市场得到广泛的应用。随着LED应用市场发展越来越迅速，下游厂商对上游LED芯片需求越来越大。这就使上游厂商对其生产效率及成本有了较高的要求。

LED是一种将电能转化成光能的掺有杂质的半导体固体器件，它的结构主要是PN结芯片、电极和光学系统组成。LED的生产工艺比较复杂，一般要经过外延片制作、氮气封装、外延生长、芯片前工艺、研磨切割、点测分选、封装等主要步骤。其中外延生长决定了LED发光颜色、发光亮度以及可靠性，因此外延生长所使用的设备MOCVD是LED生产中的核心设备，从而提高MOCVD的生产效率亦是重中之重。

现在市场大多数的MOCVD设备，衬底片放置主要由两种，一种是外延面向上放置，另一种则是向下放置。衬底片外延面向上放置类型的反应炉，为了防止炉盖底部附着制程时产生的颗粒物会在炉盖下部安装一块石英板，此石英板是需要定期更换的，但是大多此类型设备的反应炉炉盖只能向上垂直开启，或者倾斜开启，倾斜角度小于45度，为设备维护人员拆卸、安装石英板以及清理炉盖下表面带来很大不便，延长了设备维护时间，因炉盖下表面垂直向下或倾斜小于45度角，石英板在操作过程中还存在掉落损害风险。衬底片倒置类型的反应炉，衬底片一般是倒装在炉盖下表面的，同样，大多此类型设备的反应炉炉盖只能向上垂直开启，或者倾斜开启，倾斜角度小于45度，操作人员取片、装片很不方便，耗费时间，并且亦存在衬底片掉落的风险。两种类型的反应炉炉盖开启方式，都影响了设备的有效制程时间，降低了设备生产效率，而且存在成本损失的风险。

发明内容

为了解决由上述原因导致的生产效率受到影响，降低成本损失风险，本实用新型提出了一种对反应炉炉盖进行升降和翻转的机构。

实现上述有益效果的技术方案为，一种对反应炉炉盖进行升降和翻转的机构，包括升降气缸1、安装在机罩2内部的伺服电机3、蜗轮蜗杆减速机4，旋转轴6通过联轴器7与炉盖8相连接；

所述的升降气缸1安装在炉体9一侧，气缸活塞杆上端连接机罩2，安装在机罩2内部的伺服电机3带动蜗轮蜗杆减速机4，蜗轮蜗杆减速机4的旋转轴6通过联轴器7与炉盖8相连接；炉体9的两侧结构为对称布置结构；

通过气缸活塞杆的升降，机罩2、伺服电机3、蜗轮蜗杆减速机4连同炉盖8进行同时升降，并在伺服电机3带动下，通过蜗轮蜗杆减速机4，将炉盖8进行翻转。

理论上，炉盖可在零度至180度之间翻转。同时，机罩和安装在机罩外部的磁流体的作用是防止伺服电机和蜗轮蜗杆减速机在运行过程中产生污染物而对已打开炉盖的反应炉内部造成影响。

翻转后，炉盖下表面垂直向上或成仰角向上，操作者可以直接观看到操作面，进行石英板或衬底的更换工作，操作灵便，提高了生产效率，由于此时石英板或衬底位于上方，降低了其掉落损坏的风险。

附图说明

图1为本实用新型的一种实施方式的结构示意图；

1.升降气缸                 2.机罩             3.伺服电机

4.蜗轮蜗杆减速机           5.磁流体           6.旋转轴

7.联轴器                   8.炉盖             9.炉体

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做进一步说明。

结合图1，本实用新型的一种实施方式。一种对反应炉炉盖进行升降和翻转的机构，包括升降气缸1、安装在机罩2内部的伺服电机3、蜗轮蜗杆减速机4，安装在机罩4外部的磁流体5，旋转轴6通过联轴器7与炉盖8相连接。

本实施例中，所述的升降气缸1安装在炉体9旁，气缸活塞杆上端连接机罩2，通过气缸活塞杆的升降，对机罩2、伺服电机3、蜗轮蜗杆减速机4连同炉盖8进行同时升降，并在伺服电机3带动下，通过蜗轮蜗杆减速机4，将炉盖8进行翻转。