[实用新型]具有MARK点刻蚀保护圈的线路板有效
申请号: | 201320552326.6 | 申请日: | 2013-09-05 |
公开(公告)号: | CN203457412U | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 张敏成;郑良;陆萍 | 申请(专利权)人: | 常州市双进电子有限公司 |
主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02 |
代理公司: | 常州市维益专利事务所 32211 | 代理人: | 路接洲 |
地址: | 213103 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 mark 刻蚀 保护 线路板 | ||
技术领域
本实用新型涉及线路板制造领域,尤其是一种具有MARK点刻蚀保护圈的线路板。
背景技术
随着SMT安装工艺的自动化发展,很多贴片技术开始由人力向全自动机械化安装转变,为了配合向自动化转变,同时也向线路板制造厂商发起了又一个新的挑战,作为自动化识别定位的MARK点就在自动化过程中扮演了极为重要的角色。
MARK点能够起到识别定位的作用是其充分利用了光学反射的原理,设备通过CCD读取MARK点的映像而计算其大小、图形面积进而起到精确定位的作用。可想而知,如果MARK点出现大小不一、受损、粗糙、图形不规则等变形问题,都会影响CCD读取的准确性,在生产过程中也就失去了应有的功能。于是,很多客户对光学点的要求也越来越高,特别是现在很多金手指板对MARK点单边误差不允许超过1mil,这也就要求更多的线路板制造商必须跟上向自动化转变的步伐,执行高标准、严要求,提高自身产品的精确度。
但因为独立MARK本身形状和位置的设计,也给制造带来了难点。MARK点自身功能决定了所处位置的孤立性,因此在做图形转移工序时,MARK点周围形成高干光区,MARK点的大小会受光线折射有不同程度的变形;线路显影时也容易造成显影不净,在图形电镀、蚀刻后就会有变形。
电镀做二铜时,因其受镀面积小,在高电流的情况下,易造成MARK表面粗糙,镀锡时致密性差等不良;当电流密度小时又容易在镀锡时造成假镀,造成蚀刻过程锡不抗蚀,导致MARK点变形。由鉴于此,要保证独立MARK点的精确度,就不能仅靠改变电流密度来做改善。
蚀刻过程,因为独立MARK点位置蚀铜量大,药水流动性强,造成了MARK点侧蚀比密集线路处偏大;为了提高生产效率,产线会提高蚀刻压力来弥补速度上的效率差,高蚀刻压力同样会增加独立MARK点的侧蚀量;由于水池效应的影响,还会造成蚀刻后两面侧蚀不同,导致成同一款板上、下两面的蚀铜量差异。因此,通过调整蚀刻线来改变MARK点制作精度同样有难度。
在后工序中,需要表面处理的工序(如:阻焊、OSP等)仍然很多,如何保证MARK点在后工序的化学清洗和机械清洗中不受损伤,同样是改善的重大课题。
另外,MARK点在线路板制造商处既无法通过提前的工程设计补偿预测,也不能在后面做到电测检验和人工逐一量测,因此,同样面临着不良品外流的风险。如何在不增加成本、降低报废,又能改善MARK点变形不良,成为线路板制造商的当务之急。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是:提供一种具有MARK点刻蚀保护圈的线路板,在不影响外观和功能的前提来解决以上存在的品质隐患,从而达到降低报废,提升品质的目的。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种具有MARK点刻蚀保护圈的线路板,包括线路板本体以及设置在线路板本体上的MARK点,所述的MARK点的外圈设有用于保护MARK点的蚀刻而成的保护圈;所述的保护圈与MARK点之间留有距离;所述的保护圈的底层设置有阻焊圈;所述的阻焊圈的外径大于保护圈的外径。
本实用新型所述的保护圈与MARK点之间的距离为0.5~2.0mm。保护圈不能离MARK点间距过小,也不宜过大;间距过小容易造成电镀夹膜和蚀刻不净,容易造成负面影响;间距过大起不到保护作用。
为不影响MARK的识别功能,本实用新型所述的保护圈的内径距离阻焊圈的内径0.1~1.0mm。
为了保证自身能够抗蚀刻,本实用新型所述的保护圈的环宽大于等于0.5mm。
本实用新型的有益效果是,解决了背景技术中存在的缺陷,能够有效地在整个工序对MARK点缺损、变形做出提前预防和保护作用,减少工序不良,降低工序报废,节约生产成本。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1为MARK点与保护圈简图;
图2为阻焊层与保护圈简图;
图3为阻焊后MARK点保护圈示意图;
图中:1、MARK点;2、保护圈;3、保护圈与MARK点之间的距离;4、阻焊圈。
具体实施方式
现在结合附图和优选实施例对本实用新型作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图,仅以示意方式说明本实用新型的基本结构,因此其仅显示与本实用新型有关的构成。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于常州市双进电子有限公司,未经常州市双进电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320552326.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。