[实用新型]一种硅片的清洗装置

说明书

【技术领域】

本实用新型涉及一种清洗装置，尤其是涉及一种硅片的清洗装置。

【背景技术】

已知的，目前在半导体硅片超声波清洗机构中，超声波能量均匀的作用到硅片表面上，以更好的对硅片表面起到干净均匀的清洗效果。但是在现有的硅片超声波清洗机构上，由于硅片需要先竖直插到塑料硅片载片盒中，再放到超声波清洗槽中进行硅片的超声清洗，而塑料载片盒会对超声波能量的传递造成阻挡作用，从而使超声波能量不能传递到硅片与塑料载片盒接触的部位，导致硅片与塑料载片盒接触部位不能被清洗干净，造成整个硅片表面清洗不均匀，使硅片表面洁净度不一致，目视颜色不一致，不能满足客户对硅片表面颜色一致的要求。

【发明内容】

为了克服背景技术中的不足，本实用新型公开了一种硅片的清洗装置，本实用新型通过在载片盒上安装带有导轨的卡槽，并在导轨内设置旋转拨杆，再用带有浮箱的连接杆与旋转拨杆相连接，通过浮箱带动连接杆的移动使硅片旋转，从而达到使清洗硅片表面洁净度一致的目的。

为了实现所述发明目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种硅片的清洗装置，包括浮箱、载片盒、连接杆、旋转拨杆和卡槽，在载片盒上设有卡槽，卡槽上设有导轨，导轨上设有旋转拨杆，旋转拨杆的一端与连接杆的一端相连接，连接杆的另一端与浮箱相连接。

所述卡槽为U型结构，卡槽置于载片盒的下部。

所述载片盒由第一卡边和第二卡边组成，第一卡边和第二卡边为相同结构，第一卡边和第二卡边上部为U型结构。

所述连接杆置于卡槽的外侧。

所述旋转拨杆的一端置于导轨内，旋转拨杆的另一端与连接杆垂直连接。

由于采用了上述技术方案，本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型所述的一种硅片的清洗装置，包括浮箱、载片盒、连接杆、旋转拨杆和卡槽，通过在载片盒上安装带有导轨的卡槽，并在导轨内设置旋转拨杆，再用带有浮箱的连接杆与旋转拨杆相连接，通过浮箱的移动使硅片旋转，从而达到清洗硅片的表面洁净度一致的目的，本实用新型结构简单，使用方便，实用性极强，同时简化了操作步骤，极大的提高了工作效率，清洗效果好，解决了实际出现的硅片颜色不一致的问题。

【附图说明】

图1是本实用新型的立体结构示意图。

图中：1、浮箱；2、硅片；3、连接杆；4、第一卡边；5、导轨；6、卡槽；7、旋转拨杆；8、第二卡边。

【具体实施方式】

通过下面的实施例可以详细的解释本实用新型，公开本实用新型的目的旨在保护本实用新型范围内的一切技术改进。

结合附图1所述的一种硅片的清洗装置，包括浮箱1、载片盒、连接杆3、旋转拨杆7和卡槽6，载片盒由第一卡边4和第二卡边8组成，在载片盒上设有卡槽6，卡槽6上设有导轨5，导轨5上设有旋转拨杆7，旋转拨杆7的一端与连接杆3的一端相连接，连接杆3的另一端与浮箱1相连接；所述卡槽6为U型结构，卡槽6置于载片盒的下部；所述第一卡边4和第二卡边8为相同结构，第一卡边4和第二卡边8上部为U型结构；所述连接杆3置于卡槽6的外侧；所述旋转拨杆7的一端置于导轨5内，旋转拨杆7的另一端与连接杆3垂直连接。

实施本实用新型所述的一种硅片的清洗装置，在工作时浮箱1与旋转拨杆7通过连接杆3连接起来，当清洗机的抛动系统带着载片盒上下抛动的时候，浮箱1会在浮力的作用下漂浮在硅片清洗液的液面上，当抛动系统向下运动的时候，硅片旋转拨杆7通过连接杆3在浮箱1提供浮力的作用下沿着导轨5向上运动，旋转拨杆7在沿着导轨5向上运动的同时会带着硅片2进行旋转；当抛动系统向上运动的时候，旋转拨杆7会沿着导轨5向下运动，这样形成一个运动周期，经过设定好的时间后即能达到清洗的效果，即完成本实用新型。

本实用新型未详述部分为现有技术。