[实用新型]触控基板

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种触控基板，尤其涉及一种兼具有达到减少或简化制程工序及低电阻值的效果，进而还能有效增加走线空间的效果的触控基板。

背景技术

触控面板已经广泛地应用于目前生活中，通过将触控面板整合于显示面板，人们可以通过触控操作其显示画面来控制电子装置执行对应的指令。目前触控面板的导电薄膜如是氧化铟锡(Indium tin oxide，简称的为ITO)薄膜或奈米银丝薄膜，且此导电薄膜(或称为透明电极层)形成于透明基板上，例如玻璃板或聚对苯二甲酸乙二酯(Polyethylene terephthalate，简称的为PET)板。其中所述奈米银丝薄膜由多个奈米金属线所构成的。

而一般已知的导电薄膜(如氧化铟锡薄膜或奈米银丝薄膜)形成在透明基板上的制造方法大致为：将于该透明基板的表面上的导电薄膜进行涂怖光阻后，接着对以涂布该基板的表面上的导电薄膜进行烘烤，待烘烤完后则进行曝光及显影制程，使该基板的表面上形成有电极图案的透明电极层，其中如以奈米银丝薄膜为例，于该基板的表面的透明电极层是由多个奈米金属线所构成的；然后再依序对该基板的表面的透明电极层经清洗、蚀刻、清洗、烘烤等步骤后，接着对该基板的表面的透明电极层进行网版印刷，使该基板的表面周边形成有一走线层电性连接相邻透明电极层后，再次经烘烤而得一触控基板。

虽现有技术通过上述制程步骤可达到制造出所述触控面板的触控基板，但其却延伸出另一问题，就是必须经过上述多道繁杂步骤作业才能制造出所述触控基板。另者，奈米银丝薄膜的低面电阻值约在50ohm／□，而氧化铟锡薄膜(ITO Film)的低面电阻约在150ohms／□，且氧化铟锡薄膜面电阻较低的话，则导电性会较好，但会造成氧化铟锡薄膜的厚膜必须增大，以导致氧化铟锡薄膜的穿透度降低，故前述氧化铟锡薄膜的面阻值会影响到氧化铟锡薄膜厚度及穿透度，因此，使得面阻值越小成本会越高且技术门槛也越高，以致于面阻值居高不下。

此外，由于走线层系通过网版印刷方式形成的，使得于该基板表面上的走线空间会受到局限。

以上所述，现有技术具有下列缺点：

1.制造工序复杂繁多；

2.成本提高；

3.走线空间受限。

因此，要如何解决上述问题与缺点，即为本领域技术人员与从事此行业的相关厂商所急欲研究改善的方向所在。

实用新型内容

因此，为解决上述现有技术的缺点，本实用新型的主要目的，提供一种具有减少或简化制造工序及低面阻值的触控基板。

本实用新型的另一目的是提供一种具有达到增加走线空间的触控基板。

为达上述目的，本实用新型提供一种触控基板，是应用于一触控装置上，且该触控基板包括：一基板，具有一第一表面及一相反该第一表面的第二表面；至少一不透明感应电极层，形成在该基板的第一表面上，且其具有多个奈米银粒及多个不透明感应区块，该等不透明感应区块由该等奈米银粒以网格状排列所构成；及一不透明电极走线层，形成在该基板的第一表面的周边上，且相邻连接对应该不透明感应电极层。

优选的是，通过本新型此触控基板的结构设计，得有效达到简化制程工序及低面电阻的效果，进而还有效达到增加走线布设空间的效果。

优选的是，该等不透明感应区块彼此相邻的间具有一不透明无感应区块，该等不透明无感应区块由多个奈米银粒以网格状排列所构成，且该等不透明无感应区块系与相邻的不透明感应区块未有电性连接。

优选的是，该等不透明感应区块以一第一方向形成设在该基板的第一表面上。

优选的是，该等不透明感应区块以一第二方向形成设在该基板的第一表面上。

优选的是，该基板为一聚对苯二甲酸乙二(Polyethyleneterephthalate，PET)。

优选的是，该基板以可挠性材料所构成。

优选的是，该每一奈米银粒的直径介于数奈米至数十奈米的间。

所以借由本新型的方法设计，达到简化制程工序及低面电阻的效果，进而还有效达到增加走线布设空间的效果。

附图说明

图1A为本新型的第一较佳实施例的立体示意图；

图1B为本新型的图1A的局部放大示意图；

图1C为本新型的图1A的另一局部放大示意图；

图2为本新型的第一较佳实施例的另一立体示意图；

图3为本新型的第一较佳实施例的触控装置立体示意图；

图4为本新型的第一较佳实施例的触控装置剖面示意图；