[实用新型]一种陶瓷设备用的抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及陶瓷砖产品生产加工设备的技术领域，特别是用于陶瓷砖面防污处理的抛光装置。

背景技术

目前，陶瓷砖产品在生产加工过程中，尤其是抛光加工之后，需要对砖面进行防污的加工处理，即在抛光好的砖面上涂覆防污、防渗材料，通过防污材料覆盖瓷砖表面的微孔，形成防污层，从而提高瓷砖表面的抗污性能。防污材料的布施主要由防污装置的磨头旋转研磨完成。传统的防污装置采用一转盘装多个磨头结构，一般为六个，且每个磨头上都装配有驱动电机，每个磨头直接由电机驱动，而所装电机的功率一般为2.2KW，其缺点是：一方面，防污加工处理是由10-20组防污装置串联连排工作的，数十甚至过百台电机同时工作，生产加工时用电量极大、能耗较高，另一方面，由于装置的工作环境温度较高，而使用到的防污材料又是易燃液体，其与电机的距离又较近，这样存在较大的安全隐患，容易起火燃烧，再有，高温的工作环境也不利于电机的正常使用，电机常常容易烧毁，影响设备的正常使用。为此，申请人曾对传统的防污抛光装置进行了改进，并申请了专利申请号为：201320215257.X、名称为：“陶瓷设备用的防污抛光装置”的实用新型专利，使得防污效果、安全性、耐用性有了明显的提高，但仍有改进和提高的空间，尤其是对于装置的节能效果和使用成本方面。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服上述传统技术的不足之处，提出一种防污效果好、工作效率高、能耗更低、维修维护更便捷、使用成本低廉的陶瓷设备用的抛光装置。

本实用新型的目的是通过如下技术方案实现的：一种陶瓷设备用的抛光装置，包括有机架、装于机架上的电机、由电机驱动的转轴、装于机架下部由转轴带动的转盘、装于转盘下方的多个磨头，其特征在于：所述的转轴分为主轴和副轴，副轴套装于主轴外形成两轴各自独立旋转的同心轴结构，所述主轴和副轴的驱动动力均由同一台电机提供，主轴、副轴与承台三者之间设有传动皮带轮组，主轴通过第一皮带及皮带轮由电机驱动，主轴上部与承台之间设有第二皮带及皮带轮，承台与副轴之间设有第三皮带及皮带轮，传动皮带轮组带动副轴以低于主轴的转速旋转，副轴下部通过轴套与转盘固连联动，主轴下部则穿过转盘，其下端部通过第四皮带及皮带轮驱动转盘下方的磨头。进一步地，所述承台上，第二皮带轮与第三皮带轮安装于同一轴上同步联动。每个磨头均通过磨头座安装于转盘下方，每个磨头的磨头座上均设有双皮带轮，双皮带轮上分别连接两条磨头皮带，这样，磨头皮带将相邻的磨头两两相互传动连接，将转盘下方的所有磨头等速同步联动。主轴下端部的第四皮带及皮带轮只驱动转盘下方的一个磨头，该磨头为主动磨头，由该主动磨头通过磨头皮带带动其余磨头旋转。机架上设有用于调整磨头上下位移的升降气缸。装于转盘下方的磨头数量为4—10个。

这样设计的构造，具有明显的优点：1、转盘和磨头分别由不同的轴驱动，主轴、副轴分别以不同的转速旋转，尤其是可使转盘以低转速旋转、而磨头以高转速旋转，这样的配合，防污处理效果更好；2、只使用一台电机同时驱动主轴和副轴，大大减少了电机的数量，降低了设备成本；3、与传统装置相比，每个转盘减少的电机每小时可节电10度以上，而每条生产线上至少有22-25个转盘，节能减排效果十分明显；4、采用皮带及皮带轮传动，维修维护方便、简单，使用成本低；5、结构简单耐用，不易对瓷砖产品造成二次污染。

附图说明

图1是本实用新型的主视示意图。

图2是图1的俯视示意图。

图3是本实用新型的立体示意图。

图4是本实用新型的立体示意图。

附图标记说明：1.机架 2.电机  3.第三皮带及皮带轮  4.主轴      5.副轴  6.第一皮带及皮带轮  7.第二皮带及皮带轮  8.转盘 9.磨头 10.升降气缸 11.轴套 12.磨头座 13.第四皮带及皮带轮 14.磨头传动皮带 15.双皮带轮 16.承台 17.连接轴。

具体实施方式