[实用新型]用于在真空处理设施中进行气体分离的设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种用于在真空处理设施中进行气体分离的设备。气体分离适于其中例如以连续流方法（Durchlaufverfahren）清洁和/或涂层、平坦地通常处理如玻璃板之类的矩形的盘式基板（Scheibensubstrate）的这种设施。该设备在这种情况下在连续的基板传送时支持在所述设施的位置相关的区域中的不同压力比。

背景技术

公知用于真空处理的方法、用于执行所述方法的设施和设备、以所谓的连续流方法工作的设施，并且也公知用于气体分离的设备。

等离子体刻蚀、溅射以及电子束蒸镀等属于真空处理的示例性代表。在其内部主要是次大气压的（subatmosphaerisch）压力比占主导的这样的设施首先由于其长度而由相互连接的真空室组成，所述长度可为直至100m。这些室在紧密连接的情况下可被抽真空直到高度真空和高真空（Feinvakuum），其中在几乎所有真空室中力求确切地说保持相同的真空。其例外情况是在该设施的输入处或者也在该设施的输出处的可选闸门，基板通过所述闸门到达该设施中或从该设施到达；空气对空气设施。

在用连续流方法进行真空处理的情况下，处理装置与该设施的各个区段固定关联，并且基板穿过处理装置运动。在此不重要的是，是否涉及如玻璃板之类的离散基板，或者也涉及如金属带或者薄膜之类的所谓的无穷的基板（Endlossubstrate）。对于后者不一定要求连续的入闸和出闸，因为为此也提供以所谓的批处理（Batch）方法进行处理，在批处理方法的情况下，基板储备在处理之前和之后整体地被带入到该设施中或被带出该设施。

针对用于所阐明的连续流方法的方法和设备已发现如下用于气体分离的设备，所述用于气体分离的设备基本上必须满足功能区域的气体解耦的功能。后者意指其中设置处理的区域（处理区域（Prozessbereich）），但是其中也设置基板的闸门的区域（闸门区域和输送区域）。“气体解耦”要被理解为在这些区域中要可调整不同的压力和/或尽最大可能地抑制气体、颗粒或者灰尘形式的材料的传输。这样使对工艺的高技术要求成为需要的，以便将处理的质量保持得高，但是这种也归功于如下事实：该设施形成所包含的真空容器，在所述真空容器中压力的在空间上可关联的变化紧靠技术边界。在概念上，处理气体包括通入到该室中的并且必要时反应性形成的气体以及所述的颗粒等。

简化地示出，在两个功能区域之间，基板通过尽可能窄的和长的隧道（Tunnel）在气体分离装置中被引导，以便在这些区域之间构造流动阻力，其中在其他情况下在这些区域之间的透气应是不可能的。在图1中示意性地描绘了根据现有技术的具有隧道6、基板4和此处仅局部示出的间壁7的这种设备1。基板4在传送方向20上穿过这种狭道运动。在隧道的内部横截面旁边，流动阻力按纵向延伸部19或者也简单地按隧道6的长度量定。

气体分离首先利用如下作用原理：连续地少量分配剂量的量的如氩气和/或氧气之类的气体被导入到处理区域中，并且连续工作的真空泵负责在处理区域中要保持尽可能恒定的所需的压力。为了掌握所需的压力差以及也掌握迁移材料的问题，不同的解决方案负责在隧道中、在隧道上或者从隧道中借助真空泵吸走以及将隧道和基板传送设计为尽可能最优。

在提出有效的气体分离时的技术边界不仅取决于隧道的形状（高度、宽度、长度）和取决于也要安放在隧道中的传送装置连同其驱动器（Antrieb），而且取决于气体的抽出和输送。泵功率和例如氩气的还在经济方面可认为正当合理的气体消耗限制后者。非常长地实施的隧道明显由设备长度以及真空室的与其相联系的花费等等负担。基板在传送时的形状、偏斜、尺寸精度和位置可以在过窄的隧道中导致基板的堵塞或者折断。不利地添加，处理具有增加的宽度的基板；至约3m，这导致较大的隧道宽度。与隧道机械接触的基板在通常情况下此后是不能用的。

迄今发现的最有效的解决方案是在真空室中或者在这样的壳体中的两个功能区域之间设置隧道的这种解决方案，该壳体通过横向的经过隧道的间壁来划分。在这样形成的部分壳体上分别设置真空泵。真空室从部分壳体中吸出处理气体。这通过壳体中的穿通部（Durchbruch）从功能区域中以及通过在壳体与隧道之间的穿通部从隧道本身中进行。传送装置被安放为使得仅仅通过间隙按份额地使滚轮（Roll）或者O环伸入到隧道中，使得基板的支承点仅从隧道内壁提起数毫米。

现在已表明，显著的薄弱环节在如传动带（Riemen）或者链之类的用于力传递的装置不中断地经过间壁的地方形成，所述用于力传递的装置被设置用于驱动传送滚轮并且最后被设置用于基板传送。在该情况下不利地影响气体分离的效力。