[实用新型]用于在真空处理设施中进行气体分离的设备

权利要求书

1.一种用于基板（4）的在包括至少一个真空室（2）的真空处理设施（3）中的气体分离的设备（1），其特征在于， 

所述设备（1）被设置为如下形式的气体流动有效的流动阻力：所述形式为在设施（3）的两个区域（5）之间的把基板传送围住的横截面的纵向延伸的收缩部，在所述区域（5）中能调节真空中的至少不同的压力， 

并且所述设备（1）具有： 

隧道（6），作为用于经过基板（4）的收缩部， 

间壁（7），所述间壁（7）横向于基板传送地在外部围住隧道（6）并且与真空室（2）的内部室壁（21）相连接，使得在隧道（6）之内在基板传送中或者与基板传送相反地设置透气，以及 

至少一个被称为传送装置（8）的用于基板传送的装置， 

所述用于基板传送的装置借助至少一个可转动的传送滚轮和至少一个用于转动运动的驱动装置（11）在隧道（6）之内构造用于承载基板（4）和使基板（4）运动的支承点（9）， 

其特征在于， 

透气唯一地在隧道（6）之内至少通过其纵向延伸部（19）的部分被设置， 

其中传送装置（8）被安放为使得经过间壁（7）的透气被抑制。 

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，驱动装置（11）具有针对一个或多个传送滚轮（10）被这样安放的通过滚轮引导的传动带和/或链，所述传动带和/或链分别在间壁两侧被偏转，使得传动带和/或链（23）不经过间壁（7）。 

3.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述驱动装置（11）针对至少一个传送滚轮（10）具有至少一个这样安放的轴（22），所述轴（22）横向于基板传送布置地通过回转接头（16）方式的密封部、真空室（2）的室壁（21）穿透地被安放。 

4.根据权利要求1、2或3所述的设备，其特征在于，传送装置（8）沿着基板传送被划分，使得所述传送装置（8）通过如下方式具有至少一个传送带：传送滚轮（10）在转动方向和转动速度方面相互协调，使得基板（4）通过传送带的所有传送滚轮（10）的支承点（9）能以恒定可调节的传送速度来运动。 

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，传送带至少在隧道（6,19）的长度上被安放。 

6.根据权利要求4所述的设备，其特征在于，传送带通过机械耦合装置来形成，所述机械耦合装置被安放在真空室（2）之外。 

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，所述隧道具有穿通部（13）。 

8.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，对于间壁（7）适当地,中间壁（12）被安放在隧道的输入和/或输出上，使得在间壁（7）与中间壁（12）之间通过室壁（21）围住地构造至少一个部分壳体。 

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于，部分壳体借助至少一个真空泵（15）能被抽真空。 

10.根据权利要求8或9所述的设备，其特征在于，中间壁（12）具有穿通部（14）。 

11.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，间壁（7）被分为使得间壁（7）的至少一个上部部分（18）以及隧道（6）可拆卸地与室壁（21）相连接。 

12.根据权利要求11所述的设备，其特征在于，间壁（7）的上部部分（18）可插接地被建造并且与真空室的盖（17）相连接，使得上部部分（18）随着盖（17）的打开和闭合能被引出或能被插入，其中在盖（17）闭锁时连接和不连接间壁（7）的部分。 

13.根据权利要求1所述的设备，其特征在于，传送装置（8）和其驱动装置（11）被安放为使得经过间壁（7）的透气被抑制。