[实用新型]硅片多级循环清洗设备有效
| 申请号： | 201320367106.6 | 申请日： | 2013-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN203389887U | 公开（公告）日： | 2014-01-15 |
| 发明（设计）人： | 刘彬国;何京辉;李立伟;史彪 | 申请（专利权）人： | 邢台晶龙电子材料有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 石家庄国为知识产权事务所 13120 | 代理人： | 米文智 |
| 地址： | 054001 河*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 硅片 多级 循环 清洗 设备 | ||
【权利要求书】：
1.一种硅片多级循环清洗设备，包括进料槽（1）、出料槽（2）、去污槽（3）、药液槽（4）、漂洗槽（5）、进水管（6）和排污管（7），其中去污槽（3）为四个，药液槽（4）为二个，漂洗槽（5）为四个，进水管（6）分别与进料槽（1）、四个去污槽（3）、二个药液槽（4）、四个漂洗槽（5）和出料槽（2）相连，其特征在于：还包括一个收集箱（8），四个漂洗槽（5）、出料槽（2）的排水管与收集箱（8）相连，进料槽（1）、四个去污槽（3）和二个药液槽（4）的排水管与排污管（7）相连，收集箱（8）外设有水泵（9），水泵（9）与收集箱（8）、进料槽（1）之间管道相连。
2.根据权利要求1所述的硅片多级循环清洗设备，其特征在于：所述收集箱（8）内设置液位感应器。
3.根据权利要求2所述的硅片多级循环清洗设备，其特征在于：所述液位感应器与水泵（9）导线连接。
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