[实用新型]光掩模清洗机

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及一种光掩模清洗机。 

背景技术

掩模清洗是成品掩模检测过程中重复次数最多的工序，清洗的目的在于清除表面颗粒，清洗的质量直接影响检测的结果和效率。 

目前世界各国在半导体器件生产中普遍采用的是Kern于1970年实用新型的RCA标准清洗方法。许多研究人员对RCA标准清洗方法进行了大量研究和改进。自90年代初期，人们开始致力于新型清洗工艺和清洗剂的研究以取代RCA清洗技术。1996年Cady和Varadarajan提出了采用四甲基氢氧化氨[N(CH3)4OH]与羧酸盐缓冲剂配置的碱性水溶液喷雾清洗法；1997年Jeon和Raghavan提出了利用兆声波激发臭氧水对硅片进行清洗；1998年Bakker等人提出了用水和水/CO2混合溶液在高温、高压下的清洗等等。 

然而现有技术中清洗程序设定复杂，在使用过程中容易出错；人机界面不直观，无法清楚显示当前动作；清洗时间设定不精确，影响清洗效果；结构复杂，维修不方便。 

因此，针对上述技术问题，有必要提供一种光掩模清洗机。 

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种光掩模清洗机。 

为了实现上述目的，本实用新型实施例提供的技术方案如下： 

一种光掩模清洗机，所述光掩模清洗机包括去离子水喷射单元、气体干燥单元、旋转马达，所述光掩模清洗机还包括与去离子水喷射单元、气体干燥单元和旋转马达相连的中央控制器和执行控制模块。 

作为本实用新型的进一步改进，所述中央控制器包括： 

控制芯片，用于控制清洗流程时长； 

DIP开关，用于控制清洗进程； 

电源，与控制芯片和DIP开关相连，用于为中央控制器供电； 

以及若干第一端口，用于和中央控制器外部进行连接。 

作为本实用新型的进一步改进，所述第一端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。 

作为本实用新型的进一步改进，所述执行控制模块包括： 

与去离子水喷射单元相连的去离子水喷射控制单元； 

与气体干燥单元相连的气体干燥控制单元； 

与旋转马达相连的旋转马达控制单元； 

以及若干第二端口。 

作为本实用新型的进一步改进，所述第二端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。 

作为本实用新型的进一步改进，所述中央控制器上还连接有用于显示图形用户界面的显示屏。 

本实用新型的有益效果是：本实用新型光掩模清洗机通过显示屏的GUI界面进行清洗程序的设置、更改和选择，有助于操作人员对整个清洗程序的监控；执行控制模块有效的简化了设置清洗方案流程，提高工作效率；中央控制器为各个步骤提供了更为精确的时长设定。 

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通 技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。 

图1为本实用新型一实施方式中光掩模清洗机的模块示意图； 

图2为本实用新型一实施方式中WinPLC控制器的模块示意图； 

图3为本实用新型一实施方式中DL205控制模块的模块示意图； 

图4为本实用新型一实施方式中旋转马达控制单元的控制电路原理图。 

具体实施方式

本实用新型公开了一种光掩模清洗机，包括去离子水喷射单元、气体干燥单元、旋转马达，光掩模清洗机还包括与去离子水喷射单元、气体干燥单元和旋转马达相连的中央控制器和执行控制模块。 

优选地，中央控制器包括： 

控制芯片，用于控制清洗流程时长； 

DIP开关，用于控制清洗进程； 

电源，与控制芯片和DIP开关相连，用于为中央控制器供电； 

以及若干第一端口，用于和中央控制器外部进行连接。 

优选地，第一端口包括RS232C端口和以太网端口中的一种或多种。 

优选地，执行控制模块包括： 

与去离子水喷射单元相连的去离子水喷射控制单元； 

与气体干燥单元相连的气体干燥控制单元； 

与旋转马达相连的旋转马达控制单元； 

以及若干第二端口。