[实用新型]一种镀银型反射膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及反射膜技术领域，具体涉及一种镀银型反射膜。

背景技术

液晶背光源体系主要由光源、导光板、各类光学膜片及结构件组成，其发展趋向于尺寸的多元化及轻便化，并对发光亮度要求很高。目前背光源类型主要有电致发光片（EL）、冷阴极荧光管（CCFL）、发光二极管（LED）等，依其位置不同分为侧光式和底背光式。随着LCD模组发展，高亮度薄型化的侧光式CCFL背光源成为主流，但由于功耗大，不能满足可携式资讯产品的节能要求，因此，在不增加耗电量情况下提高背光源亮度进而增加LCD亮度也是主要发展趋势之一。如何提高反射膜的光学性能，提高其反射率，使光源发出的光线能最大程度地被利用而减少损耗，是目前该领域需要解决的重要课题。

目前反射膜结构一般使用通过气泡形成多孔质的白色聚酯薄膜，如东丽、SKC等产品均集中依靠基体树脂与微孔或气泡的折射率差异来提高反射率，也就是控制中心泡孔和泡密度来提高反射率。但是，发泡型白色反射膜的反射率仅能达到96-97%，难以继续提高。

发明内容

为了克服现有光学反射膜反射率尚待提高的不足，本发明提供一种镀银型反射膜，该反射膜反射率较高，能够达到99%或以上。

为了解决上述技术问题，本发明提供下述技术方案：

一种镀银型反射膜，所述反射膜包括反射聚酯薄膜层、镀银层和保护层；所述镀银层置于所述反射聚酯薄膜层和保护层之间；所述反射聚酯薄膜层含有5-25%纳米改性无机填料，所述百分含量为重量百分含量。所述反射聚酯薄膜层的反射率≥94%。

进一步的，所述反射膜由反射聚酯薄膜层、镀银层和保护层组成。

所述反射聚酯薄膜层具有微泡结构，所述微泡的泡孔尺寸为1-10微米，密度为10⁸-10¹⁰个/cm³。

进一步的，所述纳米改性无机填料的填充粒子选自二氧化钛、硫酸钡、碳酸钙、氧化锌中的一种或至少两种的组合，其改性包覆材料为二氧化硅和或氧化铝。所述纳米改性无机填料可以制备成母料使用，所述母料中添加有一定量的添加剂，所述添加剂的选择和用量为本领域常用添加剂及用量。

进一步的，所述反射聚酯薄膜层通过超临界二氧化碳进行物理发泡制得微泡结构，微泡的泡孔尺寸为1-10微米，密度为10⁸-10¹⁰个/cm³。

进一步的，通过控制母料和超临界二氧化碳的比例来调节泡孔尺寸和密度，每千克母料添加0.02-0.1立方米液体二氧化碳。优选的，每千克母料添加0.05立方米液体二氧化碳，或者，每千克母料添加0.08立方米液体二氧化碳。

进一步的，所述反射聚酯薄膜层的厚度为50-150μm，所述镀银层的厚度为0.5-1.5μm，所述保护层的厚度为2-30μm。

进一步的，所述保护层选自聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚乙烯薄膜或聚丙烯薄膜中的一种。所述保护层也可以称为抗氧化膜，保护层具有良好的抗氧化性能，防止镀银层被氧化。

进一步的，所述镀银层采用真空镀银的方法，将银涂覆在反射聚酯薄膜层的一个表面上，所述真空镀银包括真空蒸镀和真空溅射镀银。真空镀银的工作真空度为10-1.0×10^-1Pa，工作温度为850-1000℃，成膜速度为0.01-5mm/min。镀银后反射聚酯薄膜层在氮气或惰性气体中进行退火处理。

进一步的，所述纳米改性无机填料粒径为200-400纳米。

本发明还提供一种上述镀银型反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

（1）制备反射聚酯薄膜层；

（2）在溅射室的靶中安放99.99%银，使用Ar作为溅射气体，真空度为10-1.0×10^-1Pa，工作温度为850-1000℃，成膜速度为0.01-5mm/min，在反射聚酯薄膜层上形成镀银层，在氮气条件下常温退火处理，加快镀银层结晶；

（3）采用干式覆膜方式，将保护层薄膜，通过90℃加热通道和热压，复合到步骤（2）所制得的镀银层上，收卷，即制得所述镀银型反射膜。

进一步的，所述保护层薄膜采用流延法制备，聚合物通过单螺杆挤出机熔融挤出，在冷辊上成膜，牵引，收卷，即得到所述保护层薄膜。

进一步的，步骤（1）中反射聚酯薄膜层物理发泡过程如下，将含添加剂的母料与超临界二氧化碳在单螺杆挤出机中熔融塑化、剪切混合成均匀溶液，经过模头，然后流出压延机冷却成型，并进一步通过双向拉伸制得反射聚酯薄膜层。