[实用新型]一种抗反射和自清洁玻璃

权利要求书

1.一种抗反射和自清洁玻璃，其特征在于，在玻璃表面的压印材料上利用基于带形软模具的纳米压印工艺形成亚波长的纳米锥阵列结构或在玻璃表面采用硬掩模以及压印材料并基于带形软模具的纳米压印以及硬掩模转移刻蚀工艺刻蚀出亚波长的纳米锥阵列结构。

2.如权利要求1所述的抗反射和自清洁玻璃，其特征在于，所述纳米锥为圆锥或类金字塔结构，纳米锥底面直径为100~300nm，深宽比为3~12，纳米锥底面中心之间的距离为100~300nm。

3.如权利要求1所述的抗反射和自清洁玻璃，其特征在于，所述带形软模具具有阵列式凹陷的圆形或方形或圆锥形特征图案。

4.如权利要求1所述的抗反射和自清洁玻璃，其特征在于，所述压印材料是紫外光化聚合物材料或者溶胶-凝胶材料或者二氧化钛材料或者二氧化硅材料。