[实用新型]一种薄膜衬底清洗装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种薄膜衬底的清洗、干燥装置，特别涉及一种衬底在清洗液中防止发生翻转和漂离槽孔的装置。 

背景技术

目前，实验室中经常用到不同尺寸的薄膜衬底，如单晶硅衬底，ITO玻璃衬底，SrTiO₃单晶衬底，MgO单晶衬底等等，在使用前往往需要进行清洗、沸煮等多道程序。在清洗、沸煮和吹干过程中，一些衬底由于表面积大，质量轻，容易发生翻转、漂浮，从而损伤或者污染衬底表面，影响衬底清洗效果。因此，急需一种装置能适合不同尺寸的薄膜衬底，并将其限定在一个相对狭小的空间中进行清洗和干燥，同时应尽量减小薄膜衬底与该装置的接触面，提高衬底的清洁度。 

实用新型内容

本实用新型的目的在于：针对上述存在的问题，提供一种使薄膜衬底在清洗干燥中不发生翻转和漂浮，并且清洁度更高的清洗装置。 

本实用新型的薄膜衬底清洗装置，包括基座1、底槽2、圆通孔3、边沿凸出圈4、基座盖5、筛孔6、提杆7、提杆螺纹接头8、基座螺纹孔9。 

所述基座盖5布置若干筛孔6，所述基座盖5由其上设置的提杆7与基座1可拆卸连接;使其防止漂浮和便于整个装置从清洗液中取出。所述提杆7贯穿基座盖5中心在其下端形成提杆螺纹接头8与基座1上设置的基座螺纹孔9形成螺纹连接。基座1下表面向上凹进形成底槽2，所述底槽2与基座上表面开有若干圆通孔3，且在基座下边缘设置有开口；使圆通孔里沉积的污渍通过底槽与外围流动，防止衬底的二次污染。所述圆通孔3的尺寸为上圆面与侧边的夹角在35°－75°之间，圆台下端开口直径4-8mm，上端开口直径10-20mm；防止了衬 底翻转，减少了衬底与内壁的接触面有助于提高清洗的洁净度。所述基座1和基座盖5的制备材料为耐腐蚀材料。 

该装置各部件均采用等耐腐蚀的材料制备（如聚四氟乙烯或有机玻璃）。 

综上所述，由于采用了上述技术方案，本实用新型的优点是： 

1、薄膜衬底在清洗过程中因斜靠或平躺在圆通孔内壁，防止了衬底翻转； 

2、薄膜衬底与圆通孔内壁的接触只有四个顶角，减少了与内壁的接触面有助于提高清洗的洁净度，同时，在清洗结束时，清洗液能快速的从圆通孔中流出； 

3、基座底槽的设计使圆通孔里沉积的污渍通过底槽与外围流动，防止衬底的二次污染； 

4、基座盖防止了薄膜衬底在清洗、沸煮过程中发生漂浮； 

5、基座盖所连接的提杆能方便地将整个夹具从清洗液中取出。 

附图说明

本发明将通过例子并参照附图的方式说明，其中： 

图1是本实用新型的立体图； 

图2是本实用新型的主视图； 

图3是圆通孔放置薄膜衬底的平躺内壁示意图； 

图4是圆通孔放置薄膜衬底的斜靠内壁示意图； 

附图标记：1-基座，2-底槽，3-圆通孔，4-边沿凸出圈，5-基座盖，6-筛孔，7-提杆，8-提杆螺纹接头，9-基座螺纹孔，10-薄膜衬底。 

具体实施方式

本说明书中公开的所有特征，或公开的所有方法或过程中的步骤，除了互相排斥的特征和/或步骤以外，均可以以任何方式组合。 

本说明书（包括任何附加权利要求、摘要和附图）中公开的任一特征，除非特别叙述，均可被其他等效或具有类似目的的替代特征加以替换。即，除非特别叙述，每个特征只是一系列等效或类似特征中的一个例子而已。 

薄膜衬底清洗装置，参照图1和图2，包括基座1、底槽2、圆通孔3、边沿凸出圈4、基座盖5、筛孔6、提杆7、提杆螺纹接头8、基座螺纹孔9。 

本实用新型中的一个优选方案为：所述基座1圆柱体，所述提杆7与基座1为可拆卸方式连接，通过提杆螺纹接头8和基座螺纹孔9以螺纹连接方式连接，所述装置各组件均采用等耐腐蚀的材料制备（如聚四氟乙烯或有机玻璃）。 

本实用新型在使用时，根据薄膜衬底大小选择适合的圆通孔，以薄膜衬底上顶点离圆台上表面2－4mm为宜，然后将上盖中心的提杆螺纹接头连接基座，并旋紧吻合盖面，清洗完后，提杆可方便的将基座提起。 

本实用新型在薄膜衬底的清洗、沸煮、干燥等过程中，有效的保证了衬底的不翻转、漂浮，圆通孔和底槽的结构也更有效的提高了薄膜衬底清洗的洁净度。 

上述仅为本实用新型的具体实施方法，但本实用新型的设计构思并不局限于此，一切不脱离本实用新型的精神和范围的技术方案及其修改，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围内。 

本实用新型并不局限于前述的具体实施方式。本发明扩展到任何在本说明书中披露的新特征或任何新的组合，以及披露的任一新的方法或过程的步骤或任何新的组合。