[实用新型]一种真空计冷规保护装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及真空计保护装置领域，特别是一种真空计冷规保护装置。

背景技术

氧化物晶体生长过程中，温度较高、生长周期长，生长环境要求高真空。在生长过程中，需要时时观察其真空值的准确度，以掌握晶体生长过程中的真空状态，便于及时发现问题并采取有效措施。

目前，在晶体生长的高温状态下，比较容易挥发较多的氧化物质，作为测试真空的冷规，在使用一段时间后，由于挥发出的氧化物质粘附在冷规电弧感应丝处，导致冷规对真空测试的灵敏度变低，从而影响晶体生长过程中对真空度的准确判断，且容易损坏冷规，缩短其使用寿命。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于克服现有技术中，作为测试真空的冷规，在使用一段时间后，由于挥发出的氧化物质粘附在冷规电弧感应丝处，导致冷规对真空测试的灵敏度变低，从而影响晶体生长过程中对真空度的准确判断，且容易损坏冷规，缩短其使用寿命的缺点，提出一种真空计冷规保护装置。

本实用新型采用如下技术方案：

一种真空计冷规保护装置，安装于晶体生长炉炉体真空感应出气口内，其特征在于：包括有若干沿出气口出气方向排列的滤片，以及固定该若干滤片且使其间隔排列的固定件，滤片上设有至少一出气孔。

根据本实用新型一较佳实施方式，所述滤片为铜质滤片。

根据本实用新型一较佳实施方式，所述出气口的进气端设有所述滤片，出气端设有所述冷规。

根据本实用新型一较佳实施方式，所述滤片为纵向平行间隔排列。

根据本实用新型一较佳实施方式，所述固定件为螺栓，所述出气口的进气端对应设有螺纹孔。

由上述对本实用新型的描述可知，与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型的真空计冷规保护装置，安装于晶体生长炉炉体真空感应出气口内。设置多个沿出气口出气方向排列的铜质滤片，该铜质滤片能阻挡高温下产生的氧化物质，从而使晶体生长过程中，冷规对真空度的感应更加灵敏，且在操作过程中，能更准确地读取真空值，以有效地保护晶体生长质量，延长冷规的使用寿命。

附图说明

图1为本实用新型的结构示图；

图中：1、炉体；2、出气口；3、滤片；4、冷规；5、出气孔；6、螺栓；7、螺纹孔。

具体实施方式

以下通过具体实施方式对本实用新型作进一步的描述。

参照图1，一种真空计冷规保护装置，安装于晶体生长炉炉体1真空感应出气口2内，出气口2的进气端设有滤片3，出气端设有冷规4。若干滤片3为沿出气口出气方向排列，在若干滤片3上设有使其间隔排列并保持固定的固定件，每个滤片3上设有一出气孔5，出气孔5可根据需要设置数量、大小及位置。

为了更好地阻挡高温下产生的氧化物质，该滤片3采用铜质滤片。

参照图1，冷规4固定于出气口2，滤片3位于出气口下方，滤片3为纵向平行间隔排列，使得经过出气口的氧化物质能经多个滤片3层层过滤。

所述固定件采用螺栓6，出气口2的进气端对应设有螺纹孔7，采用螺纹连接的固定件能保证滤片3稳固的位于出气口2处。

在工作过程中，处于高温的晶体生长炉炉体内产生含有氧化物质的气体，气体经出气口进气端的滤片3层层过滤，氧化物质被阻挡于滤片3上，到达出气口出气端的气体已滤掉大部分氧化物质，经冷规感应能更准确地读取真空值，有效地保证晶体生长质量。

上述仅为本实用新型的一个具体实施方式，但本实用新型的设计构思并不局限于此，凡利用此构思对本实用新型进行非实质性的改动，均应属于侵犯本实用新型保护范围的行为。