[实用新型]具有保护装置的涂布喷头及涂布机有效
申请号: | 201320220388.7 | 申请日: | 2013-04-26 |
公开(公告)号: | CN203256143U | 公开(公告)日: | 2013-10-30 |
发明(设计)人: | 王耸;万冀豫;黄常刚;吴洪江 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
主分类号: | C03C17/00 | 分类号: | C03C17/00 |
代理公司: | 北京派特恩知识产权代理事务所(普通合伙) 11270 | 代理人: | 张颖玲;孟桂超 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 保护装置 喷头 涂布机 | ||
技术领域
本实用新型涉及涂布技术,尤其涉及一种具有保护装置的涂布喷头及涂布机。
背景技术
现有技术中,在阵列基板的制造工艺中一种主要涂布方式为狭缝式涂布(Slit Coating),狭缝式涂布的结果及工作原理如图1所示,在涂布机的涂布喷头10的前方下端处设置有保护件11,基台30上设置有基板40,一般来说,基板40被真空吸附在基台30上,涂布机利用自身涂布喷头10内的狭缝出口对基板40均匀涂胶,并且移动涂布喷头10以涂布基板40的不同区域。
在涂布喷头10的移动过程中,保护件11起到保护涂布喷头10的功能。具体的,保护件11接触到位于基台30上或者基板40上的异物50时,涂布喷头10会自动升起以停止涂布,未涂覆完的基板只能抛弃,则造成了基板的浪费。如果异物50在基板40之下,涂布过后会产生碟状姆拉(mura),mura为本领域的常用术语,即含义为包括不均匀、色差等的缺陷。此时,只能由工作人员进入基台30的罩体(booth)内,手动擦拭基台30,但是进入的擦拭效果不一定明显,还有可能带入更多的异物,致使不良率更高。
此外,采用现有吸附模式将基板40真空吸附至基台30,为了提高生产效率,吸附与涂布同时进行,为了提高吸附速度,会造成基台30的吸附孔处的吸附压力很大,从而产生明显的吸附孔mura,也导致了不良率的提高。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型的主要目的在于提供一种具有保护装置的涂布喷头及涂布机,能够消除由异物导致的涂布不良,避免了基板的浪费,还能够降低基板的吸附压力与预吸附时间,提高了生产效率,避免了吸附孔姆拉。
为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种具有保护装置的涂布喷头,包括用于涂布基板的狭缝结构,所述涂布喷头还包括保护装置,所述保护装置设置于所述涂布喷头在运行方向上的前侧,且所述保护装置具有相互连通的进气口、气道和出气口;所述出气口的开口方向背离所述狭缝结构的出口方向。
优选的,所述出气口与所述基板之间的夹角在45度至90度之间。
优选的,所述出气口的孔径小于所述进气口的孔径。
优选的,所述涂布喷头由不锈钢材质制成。
优选的,所述涂布喷头一体成型。
优选的,所述涂布喷头还包括传感器。
一种涂布机,该涂布机包括具有保护装置的涂布喷头,所述涂布喷头包括用于涂布基板的狭缝结构以及保护装置,所述保护装置设置于所述涂布喷头在运行方向上的前侧,且所述保护装置具有相互连通的进气口、气道和出气口;所述出气口的开口方向背离所述狭缝结构的出口方向。
优选的,所述出气口与所述基板之间的夹角在45度至90度之间。
优选的,所述涂布喷头一体成型。
优选的,所述涂布喷头还包括传感器。
与现有技术相比,本实用新型的具有保护装置的涂布喷头及涂布机,通过自身的保护装置以恒温的压缩气体(例如:CDA,Clear Dry Air)沿涂布方向进行吹气,以消除基台上的异物,避免了由于基台上粘覆异物而造成的碟状mura等;还避免了工作人员频繁进入booth内部、手动擦拭基台,从而提高了工作效率以及产品良率。
在涂布过程中,吹落基板上的异物,避免了涂布中途停止以及基板的浪费。同时,CDA气流给基板一个向下的分力,可以降低基台吸附孔的吸附压力与预吸附时间,提高了生产效率,避免了吸附孔mura。
附图说明
图1为现有技术的涂布喷头示意图;
图2为本实用新型涂布喷头的结构示意图;
图3为本实用新型涂布喷头的另一结构示意图;
图4为图3中沿保护装置的进气口中心线的剖视示意图。
附图标记说明:
10、涂布喷头 11、保护件
30、基台 40、基板
50、异物 20、涂布喷头
21、保护装置 211、进气口
212、出气口 213、气道
22、狭缝结构
具体实施方式
有关本实用新型的技术内容及详细说明,现结合附图说明如下。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320220388.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。