[实用新型]曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及曝光技术领域，尤其涉及一种曝光机。

背景技术

现有液晶面板彩膜产品涂盖层(Overlay)曝光过程中，如图1所示，曝光机光源装置1产生的UV光在透过掩膜版4（Mask）照射玻璃基板5的涂盖层7之前，会利用反射镜2将UV光调整至合适位置。彩膜产品小型化需要涂盖层7曝光的高精度化，然而目前曝光机可以实现涂盖层7曝光精度误差只有±2.5um。

影响涂盖层7曝光精度的主要因素为：反射镜2曲率，掩膜版4（Mask）弯曲度和玻璃基板5平坦度。现有技术中，通过引进掩膜版4夹持装置，可以实现对掩膜版4弯曲度的改善；对于玻璃基板5平坦度，也可通过增加支撑杆（Pin）的数量来实现改善。当涂盖层7不合格时，首先会考虑调节掩膜版4弯曲度和玻璃基板5平坦度，最后才考虑调整反射镜2曲率。现有技术条件下，掩膜版4弯曲度和玻璃基板5平坦度已经得到很好的控制。

然而，现有曝光机的反射镜2通过固定螺丝8固定在支架9上，上述方式存在如下三个缺陷：

一、由于反射镜2采用固定螺丝8固定的方式，需要调节反射镜2的曲率时，只能通过手动调节固定螺丝8的方式进行简单粗略的调节，无法进行可精度控制的调节。

二、对于需要多次曝光的涂盖层，现有曝光机只能针对如图2所示的每次曝光的误差方向一致的涂盖层的情况进行简单调整，对于如图3所示的每次曝光误差方向各异的涂盖层则无法自动调节。在图2和图3中，1S、2S、3S、4S分别代表第1次曝光，第2次曝光，第3次曝光和第4次曝光。

三、手动调节固定螺丝8的方法自动化程度低，影响设备稼动率。

实用新型内容

（一）要解决的技术问题

本实用新型要解决的技术问题是：提供一种能够自动准确地调节反射镜曲率，以提高涂盖层精度的曝光机。

（二）技术方案

为解决上述问题，本实用新型提供了一种曝光机，包括光源装置、支架和设置在支架上的反射镜，在所述支架与所述反射镜之间设置有至少一个调节机构，调节机构可向前推或向后拉反射镜的局部结构，以调节反射镜相应部分的曲率。

优选地，所述调节机构有一个并对应于反射镜中部位置，所述反射镜于所述调节机构周围至少有两处与支架连接。

优选地，所述调节机构有多个，其中一个为对应于反射镜中部位置的中部调节机构，其他所述调节机构对应位于该中部调节机构周围。

优选地，所述调节机构为具有定子和动子的线性马达，其中的定子固定于支架上，动子可向前推或向后拉反射镜的局部结构。

优选地，还包括用于检测曝光误差的检查单元。

优选地，还包括控制单元，所述检查单元可将检测到的曝光误差信息反馈给控制单元，所述控制单元可根据所述曝光误差信息控制所述调节机构向前推或向后拉反射镜的局部结构。

优选地，所述检查单元为光学测量装置。

（三）有益效果

本实用新型实施例的曝光机，不仅可以实现涂盖层曝光的高精度化控制，而且适用于需要多次曝光且误差方向不一致的涂盖层的情况，其操作方便，自动化程度高，且具有较高的调节精度。

附图说明

图1为现有技术的曝光机的反射镜反射光路图；

图2为每次曝光误差方向一致的涂盖层的曝光示意图；

图3为每次曝光误差方向各异的涂盖层的曝光示意图；

图4为本实用新型的技术原理示意图；

图5为本实用新型的曝光机结构示意图；

图中标号：1-光源装置、2-反射镜、3-调节机构、4-掩膜版、5-玻璃基板、6-控制单元、7-涂盖层、8-固定螺丝、9-支架、10-检查单元。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明如下。

本实用新型的技术原理如图4所示，图中实线代表反射镜2为平面镜时的反射光路图，图中点虚线代表反射镜2为凸面镜时的反射光路图，图中线段虚线代表反射镜2为凹面镜时的反射光路图。在掩膜版4及玻璃基板5平坦度一定的条件下，影响涂盖层7误差的主要因素为反射镜2曲率，即反射镜2凸起或凹陷的程度。如图4所示，当反射镜2为凹面镜时，涂盖层7形成的图案比掩膜版4的图案小，即缩小补正，且凹陷的曲率越大，涂盖层7形成的图案越小；当反射镜2为凸面镜时，涂盖层7形成的图案比掩膜版4的图案大，即扩大补正，且凸起的曲率越大，涂盖层7形成的图案越大；因此，可以通过调节反射镜2的曲率来调节涂盖层7的曝光误差。