[实用新型]曝光机有效

专利信息
申请号: 201320209239.0 申请日: 2013-04-23
公开(公告)号: CN203217248U 公开(公告)日: 2013-09-25
发明(设计)人: 余学权;徐先华;张力舟;刘志;贾富强;胡青松;刘甲甲 申请(专利权)人: 合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B7/185
代理公司: 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 代理人: 王莹
地址: 230011 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 曝光
【权利要求书】:

1.一种曝光机,包括光源装置、支架和设置在支架上的反射镜,其特征在于,在所述支架与所述反射镜之间设置有至少一个调节机构,调节机构可向前推或向后拉反射镜的局部结构,以调节反射镜相应部分的曲率。

2.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述调节机构有一个并对应于反射镜中部位置,所述反射镜于所述调节机构周围至少有两处与支架连接。

3.如权利要求1所述的曝光机,其特征在于,所述调节机构有多个,其中一个为对应于反射镜中部位置的中部调节机构,其他所述调节机构对应位于该中部调节机构周围。

4.如权利要求1、2或3所述的曝光机,其特征在于,所述调节机构为具有定子和动子的线性马达,其中的定子固定于支架上,动子可向前推或向后拉反射镜的局部结构。

5.如权利要求1、2或3所述的曝光机,其特征在于,还包括用于检测曝光误差的检查单元。

6.如权利5要求所述的曝光机,其特征在于,还包括控制单元,所述检查单元可将检测到的曝光误差信息反馈给控制单元,所述控制单元可根据所述曝光误差信息控制所述调节机构向前推或向后拉反射镜的局部结构。

7.如权利要求6所述的曝光机,其特征在于,所述检查单元为光学测量装置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司,未经合肥京东方光电科技有限公司;京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201320209239.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top