[实用新型]一种集对分析随机性来源的演示装置

权利要求书

1.一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：包括输入装置和检测装置，检测装置位于输入装置下方，所述的输入装置包括转盘和驱动转盘转动的驱动电机，转盘底部设置有若干个内径可调的小孔，驱动电机带动转盘转动。

2.根据权利要求1所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的小孔均匀分布在转盘底部，且小孔圆心位于同一圆周上。

3.根据权利要求1或2所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的输入装置与检测装置之间设置有漏斗，漏斗自上而下依次包括上开口、带空腔的壳体和下开口，其中空腔近似Y形，上开口是壳体空腔的入口，下开口是壳体空腔的出口，上开口与小孔对准，且上开口的径向宽度不小于小孔孔径。

4.根据权利要求3所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的漏斗为罩壳式结构，包括上壳体和下壳体两部分，上壳体与下壳体之间通过中部的椭圆斜口连接，且上壳体与下壳体为一体式结构，其中，上开口为圆环形，上壳体的下部为斜锥形，下壳体的下部为锥形，整个壳体为流线型结构。

5.根据权利要求1或2所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的检测装置有两个，对称设置于漏斗下开口两边，检测装置为连接有显示器的光电传感器。

6.根据权利要求5所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的漏斗下方设置有回收装置，该回收装置位于检测装置下方。

7.根据权利要求6所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的回收装置包括滑槽和设置于滑槽内的提升机，滑槽开口位于漏斗的下开口的正下方。

8.根据权利要求7所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的提升机为刮板式提升机，包括提升电机和若干个隔板分开的格槽，在提升电机的驱动下，隔板将滑槽内的样球刮入格槽内，当到达提升机顶端的转轴时，格槽从向上运动转为向下运动，样球就掉落到转盘中，从而实现了小球的回收、提升，并转移到转盘内。

9.根据权利要求1或2所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的小孔由对称设置、可转动的两扇圆弧板构成，通过圆弧板的开启或关闭，实现小孔孔径的控制。

10.根据权利要求3所述的一种集对分析随机性来源的演示装置，其特征在于：所述的下开口处设置有可开闭的抽板。