[实用新型]一种新型蚀刻片连续曝光机

说明书

技术领域                                           

本实用新型涉及半导体制造领域，尤其涉及一种新型蚀刻片连续曝光机。

背景技术

众所周知，曝光机是指通过开启灯光发出UVA波长的紫外线，将胶片或其他透明体上的图像信息转移到涂有感光物质的表面上的设备。以往在对产品曝光的过程中是使用单面曝光的。随着世界微电子技术的不断创新，一些特殊器件如传感器、双向可控硅、大功率整流器件的需求量与日俱增，半导体制造行业越来越多地需要用特殊的光刻方法作为电力半导体器件的加工手段，因此双面对准曝光机的特殊地位越来越突出。 

但是现有的双面曝光机在进行曝光的过程中，首先把产品放置在加工平台上由掩膜板盖在所要曝光产品的表面上，之后通过光源对掩膜板照射，将掩膜板内的图案投印在产品表面，之后取出产品再放入下一个待加工产品，这样分段的操作不仅在加工的时候带来许多不方便，同时影响了生产的效率。 

实用新型内容

本实用新型公开了一种新型蚀刻片连续曝光机，用以解决现有技术曝光机在工作的过程中效率不高的问题。 

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是： 

一种新型蚀刻片连续曝光机，其中，包括：上台框与下台框，所述上台框设于所述下台框上方，所述上台框与所述下台框之间的空间形成曝光区域，所述上台框与下台框均为矩形，所述下台框下侧面顶角处均设有一小气缸，所述上台框 下侧面顶角处均设有一大气缸，所述上台框与下台框两侧下方均设有一支撑板，所述小气缸与所述大气缸均连接于所述支撑板顶面，每一所述支撑板的长度长于所述上台框与所述下台框的长度，两所述支撑板之间设有一滚轴，且所述滚轴位于曝光区域的一侧，所述滚轴与所述曝光区域之间设有固定传送滑轮。

上述的新型蚀刻片连续曝光机，其中，每一所述支撑板顶面位于所述大气缸的外侧各设有一上灯滑轨支架，两所述上灯滑轨支架之间设有一上灯滑轨。 

上述的新型蚀刻片连续曝光机，其中，所述上灯滑轨下侧设有上发光元件。 

上述的新型蚀刻片连续曝光机，其中，两所述支撑板之间且位于所述下台框下方设有一下灯滑轨。 

上述的新型蚀刻片连续曝光机，其中，所述下灯滑轨上方设有一下发光元件。 

上述的新型蚀刻片连续曝光机，其中，所述支撑板顶面呈阶梯型，所述支撑板顶面由高至下依次为小气缸、大气缸以及上灯滑轨支架。 

本实用新型的一种新型蚀刻片连续曝光机，采用了如上方案的具有以下的效果，有效地提高曝光机在生产过程中连续性减少加工时运输材料的时间。 

附图说明

通过阅读参照如下附图对非限制性实施例所作的详细描述，实用新型的其它特征，目的和优点将会变得更明显。 

图1为本实用新型一种新型蚀刻片连续曝光机的示意图； 

图2为本实用新型一种新型蚀刻片连续曝光机的俯视曝光区域的示意图；

图3为本实用新型一种新型蚀刻片连续曝光机中固定传送滑轮的示意图。

如图参考：上台框1、下台框2、小气缸3、大气缸4、支撑板5、滚轴6、固定传送滑轮7、上灯滑轨支架8、上灯滑轨81、上发光元件811、下灯滑轨9、下发光元件911。 

具体实施方式

为了使实用新型实现的技术手段、创造特征、达成目的和功效易于明白了解，下结合具体图示，进一步阐述本实用新型。 

图1为实用新型一种新型蚀刻片连续曝光机。如图1所示，一种新型蚀刻片连续曝光机，其中，包括：上台框1与下台框2，上台框1设于下台框2上方，上台框1与下台框2之间的空间形成曝光区域，该曝光区域（图中未显示标识）用于对产品的曝光，上台框1与下台框2均为矩形，下台框2下侧面顶角处均设有一小气缸3，上台框1下侧面顶角处均设有一大气缸4，上台框1与下台框2两侧下方均设有一支撑板5，小气缸3与大气缸4均连接于支撑板5顶面，每一支撑板5的长度长于上台框1与下台框2的长度，两支撑板5之间设有一滚轴6，且滚轴6位于曝光区域的一侧，滚轴6与所述曝光区域之间设有固定传送滑轮7。 

上述的新型蚀刻片连续曝光机，其中，每一支撑板5顶面位于大气缸4的外侧各设有一上灯滑轨支架8，两上灯滑轨支架8之间设有一上灯滑轨81。 

在本实用新型的具体实施例中，上灯滑轨81下侧设有上发光元件811， 

在本实用新型的具体实施例中，两支撑板5之间且位于下台框2下方设有一下灯滑轨9。

在本实用新型的具体实施例中，下灯滑轨9上方设有一下发光元件911。