[实用新型]一种新型蚀刻片连续曝光机有效

专利信息
申请号: 201320132265.8 申请日: 2013-03-22
公开(公告)号: CN203133475U 公开(公告)日: 2013-08-14
发明(设计)人: 何公明 申请(专利权)人: 宁波东盛集成电路元件有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 竺路玲
地址: 315800 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 蚀刻 连续 曝光
【权利要求书】:

1.一种新型蚀刻片连续曝光机,其特征在于,包括:上台框与下台框,所述上台框设于所述下台框上方,所述上台框与所述下台框之间的空间形成曝光区域,所述上台框与下台框均为矩形,所述下台框下侧面顶角处均设有一小气缸,所述上台框下侧面顶角处均设有一大气缸,所述上台框与下台框两侧下方均设有一支撑板,所述小气缸与所述大气缸均连接于所述支撑板顶面,每一所述支撑板的长度长于所述上台框与所述下台框的长度,两所述支撑板之间设有一滚轴,且所述滚轴位于曝光区域的一侧,所述滚轴与所述曝光区域之间设有固定传送滑轮。

2.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机,其特征在于,每一所述支撑板顶面位于所述大气缸的外侧各设有一上灯滑轨支架,两所述上灯滑轨支架之间设有一上灯滑轨。

3.根据权利要求2所述的新型蚀刻片连续曝光机,其特征在于,所述上灯滑轨下侧设有上发光元件。

4.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机,其特征在于,两所述支撑板之间且位于所述下台框下方设有一下灯滑轨。

5.根据权利要求4所述的新型蚀刻片连续曝光机,其特征在于,所述下灯滑轨上方设有一下发光元件。

6.根据权利要求1所述的新型蚀刻片连续曝光机,其特征在于,所述支撑板顶面呈阶梯型,所述支撑板顶面由高至下依次为小气缸、大气缸以及上灯滑轨支架。

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