[实用新型]非均匀场强等离子体废气处理装置及处理系统

权利要求书

1.一种非均匀场强等离子体废气处理装置，其特征在于：包括等离子壳体(5)，所述等离子壳体(5)上设有进、出气口，位于进、出气口之间的等离子壳体(5)的内腔部分上至少一个横截面内安装有若干个等离子处理机构(9)，位于同一横截面内的所述等离子处理机构(9)相互沿外缘方向连接且填满所在的横截面，所述等离子处理机构(9)垂直于等离子壳体(5)的进气口，所述等离子处理机构(9)包括框形基座(10)，所述基座(10)由绝缘材料制成，所述基座(10)的内腔壁沿周向延伸有环状凸缘(11)，所述凸缘(11)的前、后面分别连接地电极板(12)和高压电极板(13)，所述地电极板(12)的外缘与凸缘(11)之间设有出风口(14)，所述凸缘(11)与地电极板(12)之间设有绝缘介质板(15)，所述地电极板(12)的外表面设有第一绝缘层(16)，所述地电极板(12)上连接有地电极引出线，所述地电极引出线穿过第一绝缘层(16)后与高压交流电源的接地端连接，所述高压电极板(13)的前表面具有若干个尖锥体(17)，各所述尖锥体(17)的后表面为相应的锥形槽，各所述尖锥体(17)的尖端分别设有第一通孔(18)，所述高压电极板(13)的后表面设有第二绝缘层(19)，所述第二绝缘层(19)上与各第一通孔(18)位置前、后对应的部位分别设有第二通孔(20)，所述高压电极板(13)连接高压电极引出线(21)，所述高压电极引出线(21)穿出基座(10)后与高压电源的高压端连接。

2.如权利要求1所述的非均匀场强等离子体废气处理装置，其特征在于：所述等离子壳体(5)为长方体箱式结构，其左、右两端分别设有变径的所述进、出气口，所述等离子处理机构(9)的基座(10)为矩形框架结构，相邻等离子处理机构(9)的基座(10)之间及相邻的基座(10)与等离子壳体(5)之间分别通过C型槽钢(27)和固定螺钉(28)连接在一起。

3.如权利要求2所述的非均匀场强等离子体废气处理装置，其特征在于：所述等离子壳体(5)上设有检修门(26)。

4.一种使用如权利要求1-3之一所述的非均匀场强等离子体废气处理装置的废气处理系统，包括至少一个进气管(1)和一个排气管(2)，其特征在于：各所述进气管(1)分别与填料塔(3)的进气口连通，各所述填料塔(3)的排气口分别通过第一连接管(4)与所述处理装置的等离子壳体(5)的进气口连通，各所述等离子壳体(5)的出气口分别通过第二连接管(6)与离心风机(8)连通，所述离心风机(8)分别通过第三连接管(7)与至少一个排气管(2)连通。

5.如权利要求4所述的非均匀场强等离子体废气处理系统，其特征在于：各所述等离子壳体(5)的进气口与各第二连接管(6)之间分别串连至少一个内部装有等离子处理机构(9)的等离子壳体(5)。

6.如权利要求5所述的非均匀场强等离子体废气处理系统，其特征在于：所述进气管(1)上设有进气蝶阀(22)。

7.如权利要求6所述的非均匀场强等离子体废气处理系统，其特征在于：所述进气管(1)与第一旁通管(23)的一端连通，所述第一旁通管(23)上设有旁路蝶阀(24)，所述第一旁通管(23)的另一端与第二连接管(6)连通。