[实用新型]磁控溅射阴极靶材的密封结构有效
| 申请号： | 201320051271.0 | 申请日： | 2013-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN203080058U | 公开（公告）日： | 2013-07-24 |
| 发明（设计）人： | 陈诚;邵帅;刘西宁 | 申请（专利权）人： | 安徽省蚌埠华益导电膜玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 蚌埠鼎力专利商标事务所有限公司 34102 | 代理人： | 王琪 |
| 地址： | 233010 安徽省蚌*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 阴极 密封 结构 | ||
1.一种磁控溅射阴极靶材的密封结构，包括靶材（1）和阴极座（2），所述的靶材（1）固定在靶背板（3）上，其特征在于：所述的靶背板（3）与阴极座（2）之间设有导磁不锈钢密封板（4），所述的导磁不锈钢密封板（4）与阴极座（2）之间设有密封两者的第一密封圈（5），所述的导磁不锈钢密封板（4）及靶背板（3）分别与阴极座（2）固定连接。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于：所述的阴极座（2）与靶背板（3）之间设有两个水嘴（6），所述的靶背板（3）及导磁不锈钢密封板（4）上分别设有与水嘴（6）相配合的第一、第二安装孔。
3.根据权利要求2所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于：所述的靶背板（3）上的第一安装孔处焊接有固定块（7），固定块（7）上设有与水嘴相配合的第三安装孔，且固定块（7）与导磁不锈钢密封板（4）之间固定连接。
4.根据权利要求3所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于：所述的第三安装孔与水嘴（6）之间设有相密封的第二、第三密封圈（8、9）。
5.根据权利要求3所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于：所述的固定块（7）与导磁不锈钢密封板（4）之间通过第一螺钉（12）相连，所述的固定块（7）上设有与第一螺钉相配合的螺纹孔，所述的螺纹孔与第一螺钉之间设有密封两者的第四密封圈（10）。
6.根据权利要求2所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于：所述的第二安装孔与水嘴（6）之间设有密封两者的第五密封圈（11）。
7.根据权利要求4所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于：所述的固定块（7）上分别设有与第二、第三密封圈（8、9）相配合的第一、第二密封圈槽。
8.根据权利要求5所述的磁控溅射阴极靶材的密封结构，其特征在于：所述的固定块（7）上分别设有与第四密封圈（10）相配合的第三密封圈槽。
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