[发明专利]一种可水显影免化学处理热敏版及其制备方法

权利要求书

1.一种可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：它包括支持体、热敏层和保护层，所述的热敏层包括下述重量份计的原料：水溶性热交联共聚物30-70份、含亲水基的预聚体10-50份、多官能团单体10-30份、 阳离子引发剂1-20份、红外光辐射吸收染料1-20份。

2.根据权利要求1所述的可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：所述的热敏层包括下述重量份计的原料：水溶性热交联共聚物40-60份、含亲水基的预聚体20-40份、多官能团单体15-20份、 阳离子引发剂5-15份、红外光辐射吸收染料5-15份。

3.根据权利要求1或2所述的可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：所述的水溶性热交联共聚物具有如下结构:

 

其中，R1、R2、R4为H原子或甲基；R3为或；R5为O原子或OCH2CH2NHCOO，n为20-60的整数；a、b、c、d为对应共聚单元的重量份，a所占重量份为40-70份，b所占重量份为10-30份，c所占重量份为10-30份，d所占重量份为10-30份。

4.根据权利要求1或2所述的可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：所述的含亲水基的预聚体具有如下结构:

 

根据权利要求1或2所述的可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：所述的多官能团单体为多官能团丙烯酸类单体或多官能团聚氨酯丙烯酸类单体。

5.根据权利要求1或2所述的可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：所述的阳离子引发剂为碘鎓盐、硫鎓盐的一种或至少两种；阳离子引发剂热分解温度为150-200℃。

6.根据权利要求6所述的可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：所述的红外光辐射吸收染料为吸收峰在750-850nm的菁染料。

7.根据权利要求1所述的可水显影免化学处理热敏版，其特征在于：所述的热敏层涂布干重是8-15mg/dm²，所述的保护层干重是5-20mg/dm²。

8.一种可水显影免化学处理热敏版的制作方法，其特征在于：它包括以下步骤：（1）处理铝版基支持体；(2) 在处理后的铝版基支持体上涂布热敏层；（3）在热敏层上的涂布保护层。

9.根据权利要求9所述的可水显影免化学处理热敏版的制作方法，其特征在于：所述的处理铝版基支持体包括对铝版基支持体的电解粗化和阳极氧化以及进行的封孔处理，处理后铝版基支持体中心线平均粗度为0. 4-0. 6 μm。