[发明专利]一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台在审
| 申请号： | 201310737701.9 | 申请日： | 2013-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN104749894A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 孟春霞;闻人青青;李玉龙;林彬;张俊 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 改善 掩模垂 重力 弯曲 掩模台 | ||
【权利要求书】：
1. 一种改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述掩模台还包括对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统。
2. 如权利要求1所述的改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统包括对掩模施加对称向外拉力的多个真空吸附系统。
3. 如权利要求2所述的改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统的真空吸附系统为对称的两个或四个。
4. 如权利要求2所述的改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统的真空吸附系统设置在掩模台的导轨上，当掩模放置好后，所述真空吸附系统通过导轨移动到掩模边缘。
5. 如权利要求2所述的改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述对掩模施加对称向外背离掩模方向的拉力的系统的真空吸附系统包括多个吸附单元。
6. 如权利要求1所述的改善掩模垂向重力弯曲的掩模台，其特征在于：所述掩模台还包括产生向下吸力的真空吸附系统。
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