[发明专利]一种高纯NiPt合金靶材及其制备方法

权利要求书

1.一种高纯NiPt合金靶材的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

（1）热锻：将NiPt合金铸锭进行热锻开坯，破碎组织细化晶粒，得到冷轧前所需形状的坯料；

（2）冷轧：将热锻的NiPt坯料进行冷轧，以减薄坯料；

（3）真空热处理：将轧制后的坯料进行真空热处理，消除加工硬化状态，使坯料的微观组织充分再结晶，热处理过程为真空状态，减少材料损耗；

（4）成品精加工：将坯料加工成所需规格，最终得到NiPt成品靶材。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述NiPt合金靶材的原材料纯度为3N5及以上。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述NiPt合金靶材中Ni、Pt的质量配比范围为从99：1到1：99。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤（1）中所述热锻为NiPt合金铸锭经过加热并进行自由锻造，铸锭加热温度在900-1350℃之间，自由锻造可以将铸态组织消除，加热可减小变形抗力，通过锻造达到细化晶粒的效果。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤（2）中所述冷轧采用一次或多次轧制，其道次变形量在5%-35%之间，总变形量在30-99%之间，轧制方向根据靶材形状采用单向轧制或交叉轧制；多次轧制过程中，两次冷轧之间进行真空热处理，以消除加工硬化状态，使坯料的微观组织充分再结晶。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述真空热处理的温度在800-1200℃之间。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤（3）中所述真空热处理的温度在800-1200℃之间。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，步骤（5）中所述坯料与背板结合，焊接，再加工出成品。

9.权利要求1-8中任一所述方法制造的高纯NiPt合金靶材，其平均晶粒尺寸在20-200μm之间，靶材溅射面晶粒取向呈随机分布。