[发明专利]预警系统及光学设备

说明书

技术领域

本发明涉及显示器制造技术领域，尤其是指一种预警系统及光学设备。

背景技术

在半导体制造尤其是液晶面板生产领域，由于光学器件制造的洁净度要求，多数光学设备都配备有过滤系统，以过滤进入光学设备内的挥发性化学物质或杂质，如曝光机就是其中的一种。

曝光机是Array工序-Photo工艺中必不可少的设备，曝光机的全称是Mirror Projection Mask Aligner(镜像投影掩膜版对位仪)，其作用是对涂好光刻胶的玻璃基板进行曝光，利用光刻胶的光敏性将掩膜版上的图像格式投影到玻璃基板上。

曝光机主要靠其精密的光学部件实现对位曝光功能，而精密的光学部件对环境的要求比较苛刻，所以曝光机一般都配有空调系统和空气过滤系统：通过过滤系统洁净空气进入曝光机；通过空调系统保持曝光机内部恒温恒湿。然而，产品制造生产线里的洁净空气有时会受到污染，如清洗匀胶机（spin coater）时光刻胶挥发造成空气污染，或者产线清洁使用的IPA（异丙醇）挥发等也会造成洁净空气被污染。

在实现本发明的过程中，发明人发现现有技术中至少存在如下问题：目前曝光机的超级低渗透空气过滤系统（ULPA Filter：Ultra Low Penetration Air Filter）能过滤99.999%以上的直径达0.1um的微粒（particle），但长期积累，过滤系统的效能随之下降，当这些透过过滤系统的挥发性化学物质附着在光学元件表面形成雾化时，雾化会造成照度下降，高压水银灯功率提高，使用寿命减短，光学元件的使用时间也大大缩短。

因此，必须及时对像曝光机这样配置有过滤系统（UPLA）的光学设备作出预警，以避免光学元件雾化造成不良后果。

发明内容

基于以上，本发明技术方案的目的是提供一种预警系统及光学设备，通过监测接收模块的雾化情况，及时对过滤系统的使用状况作出预警，以提示工作人员更换过滤系统，避免光学设备的光学元件雾化造成不良后果。

本发明提供一种预警系统，用于过滤系统的更换预警，所述预警系统包括：

用于提供测试入射光的光源模块；

用于接收经过滤系统过滤后的过滤气体和反射所述测试入射光的接收模块，所述测试入射光传输至所述接收模块，并经所述接收模块反射获得测试反射光；

用于将所述测试反射光的功率与所述测试入射光的功率进行对比，根据对比结果判断需要更换所述过滤系统时则发出警告的控制模块。

优选地，上述所述的预警系统，所述接收模块用于接收所述过滤气体的表面设置有涂层，所述涂层能够对所述测试入射光进行镜面反射。

优选地，上述所述的预警系统，所述过滤气体从所述过滤系统的气体出口流出，所述接收模块设置于距离所述气体出口0.3至1mm处。

优选地，上述所述的预警系统，所述接收模块用于接收所述过滤气体的表面与所述过滤气体流动方向之间呈40至50度夹角。

优选地，上述所述的预警系统，所述光源模块包括：

用于发出激光光束的激光发射器；

用于将所述激光光束进行分光，形成为传输至所述接收模块的所述测试入射光和传输至所述控制模块的第一测试透射光的分光镜，其中所述分光镜设置于所述激光光束的传输光路上。

优选地，上述所述的预警系统，所述分光镜为半反射镜，所述测试入射光与所述第一测试透射光的功率相同。

优选地，上述所述的预警系统，所述控制模块包括：

用于接收所述第一测试透射光，并计算所述第一测试透射光功率的第一功率传感器；

用于接收所述测试反射光，并计算所述测试反射光功率的第二功率传感器；

用于将所述第一功率传感器与所述第二功率传感器的计算结果进行比较，获得测试比值的控制器；

用于根据所述测试比值，判断需要更换所述过滤系统时则发出警告的报警器。

优选地，上述所述的预警系统，所述报警器包括获取所述测试比值，当所述测试比值大于预定数值时，则作出判断结果为需要更换所述过滤系统，并发出警告的警告模块。

优选地，上述所述的预警系统，所述警告模块包括当所述测试比值大于第一预定数值时，发出一级警告的第一警告子模块；以及当所述测试比值大于第二预定数值且小于所述第一预定数值时，发出二级警告的第二警告子模块；其中所述第一预定数值大于所述第二预定数值，所述一级警告级别高于所述二级警告级别。