[发明专利]用于释放活性物质的方法和活性物质释放系统

权利要求书

1.用于释放流体活性物质的装置，包括容纳所述流体活性物质的至少一个中空空间（2，14），由此所述装置容纳水和还原剂（10，38），它们处于或能够被做成处于连通，使得所述水和还原剂（10，38）的化学反应在所述装置中产生气体，并且所述气体有效地与所述流体活性物质连通，使得如此产生的气体压力将所述流体活性物质压迫到所述中空空间（2，14）的至少一个开口（22）之外从而到所述装置之外，其中所述至少一个中空空间（2，14）至少在其一些区域内由平行的且毛细管状的多个管（2）形成，所述管（2）在一侧上延伸至所述装置的表面中的开口。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于

所产生的气体是氢。

3.根据权利要求1或2所述的装置，其特征在于

用于化学反应的水是形成所述流体活性物质的流体水溶液的一部分。

4.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述流体活性物质是包含至少一种药学活性物质的水溶液。

5.根据权利要求3所述的装置，其特征在于，所述流体活性物质是包含至少一种抗生素的水溶液。

6.根据前述权利要求1-2中任一项所述的装置，其特征在于

所述还原剂（10，38）是金属表面（10，38）。

7.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述金属表面（10，38）具有负标准电势。

8.根据权利要求6所述的装置，其特征在于，所述金属表面（10，38）含有由镁、铁或包含镁和/或铁的合金，或由镁、铁或包含镁和/或铁的合金构成。

9.根据权利要求6所述的装置，其特征在于

所述还原剂（10，38）是形成电化学电池的贵金属和镁，或者所述还原剂（10，38）是快腐蚀金属和慢腐蚀金属的混合物。

10.根据前述权利要求1-2中任一项所述的装置，其特征在于

在所述装置中布置有至少足够质量的还原剂（10，38）和/或水，用以产生一定量的气体，所述气体占据所述中空空间（2，14）容积的至少30％。

11.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述气体为所述中空空间（2，14）容积的至少50％。

12.根据权利要求10所述的装置，其特征在于，所述气体为所述中空空间（2，14）容积的至少80％。

13.根据权利要求1所述的装置，其特征在于

所述还原剂（10，38）被布置在一个毛细管状管（2）或多个毛细管状管的与对应开口相对的端部上，由此所述还原剂（10，38）被布置在所述中空空间（2，14）中并且仅通过所述管（2）的开口连接到所述装置的表面。

14.根据权利要求13所述的装置，其特征在于，所述流体活性物质作为水溶液接触所述还原剂（10，38）。

15.根据前述权利要求1-2中任一项所述的装置，其特征在于

所述至少一个中空空间（2，14）由合成聚合物和/或部分合成聚合物组成。

16.根据权利要求15所述的装置，其特征在于，所述至少一个中空空间（2，14）是毛细管状管。

17.根据前述权利要求1-2中任一项所述的装置，其特征在于

所述至少一个开口（22）借助于有孔体（24）被封闭，由此所述有孔体（24）被布置在所述至少一个开口（22）的区域中。

18.根据权利要求17所述的装置，其特征在于，所述有孔体（24）为有孔橡胶体。

19.包括根据前述权利要求中任一项所述的装置的医用植入物，由此所述医用植入物是髋间隔器或膝间隔器。