[发明专利]降低电脑屏幕反射率的薄膜材料在审
| 申请号: | 201310665857.0 | 申请日: | 2013-12-06 |
| 公开(公告)号: | CN104694881A | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
| 发明(设计)人: | 张磊 | 申请(专利权)人: | 大连奥林匹克电子城咨信商行 |
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/10;C23C14/20;B32B9/04;B32B27/06 |
| 代理公司: | 大连东方专利代理有限责任公司 21212 | 代理人: | 贾汉生 |
| 地址: | 116000 辽宁省大*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 降低 电脑屏幕 反射率 薄膜 材料 | ||
技术领域
本发明涉及一种电脑保护膜,具体涉及一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料。
背景技术
电脑与现代人的生活有着密切的关系,很多人在一天的大部分时间面对着电脑屏幕。电脑的工作原理会造成在电脑屏幕上积累电荷,造成吸附灰尘,与周围物体放电等不良后果。同时,电脑产生的电磁辐射光、反射光,在长时间面对电脑时,眼睛容易疲劳,发红丝,视力下降,甚至严重影响身体健康,如头晕,头痛,注意力不集中等。
传统的降低电脑屏幕反射率的薄膜材料是采用一层ITO膜与其他介质匹配的方法,但此方法方制备方法复杂、制作成本高等缺点,
发明内容
本发明提供一种价格低廉、制备工艺简单的降低电脑屏幕反射率的薄膜材料。
本发明的技术方案为如下:
一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料,包括底模,其特征在于,在底模上蒸镀有蒸发膜料,所述蒸发膜料为Cr和SiO2。
本发明中,所述在底模上蒸镀有蒸发膜料的工艺采用真空蒸镀法。
本发明中,所述真空蒸镀法采用的真空度为6-9×10-3Pa。
本发明中,在底模上蒸镀蒸发膜料时,所述Cr的蒸发速率为0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.2nm/s。
本发明中,所述底模为透明薄膜。进一步,所述透明薄膜为PE、PVC或PVDC薄膜。
本发明的有益效果:本发明采用普通的真空蒸镀的方法将Cr与SiO2镀膜材料蒸镀在普通的透明薄膜材料中,未用传统的ITO透明导电膜,降低了生产成本。本发明的薄膜材料光学性能优良,明显减少反射光,在可见区,其反射率降低至0.5%以下。本发明的薄膜材料可以直接贴在电脑显示器上,应用方便。
具体实施方式
下述非限制性实施例可以使本领域的普通技术人员更全面地理解本发明,但不以任何方式限制本发明。实施例中所述试验方法,如无特殊说明,均为常规方法;所述试剂和材料,如无特殊说明,均可从商业途径获得,或可以常规方法制备。
实施例1
一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料,是采用本领域常用的真空蒸镀法将Cr和SiO2组成的蒸发膜料均匀蒸镀在PVC透明薄膜上制备而成的。
在上述真空蒸镀法蒸镀蒸发膜料时,装置的真空度控制在7.2×10-3Pa,所述Cr的蒸发速率为0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.2nm/s。
实施例2
一种降低电脑屏幕反射率的薄膜材料,是采用本领域常用的真空蒸镀法将Cr和SiO2组成的蒸发膜料均匀蒸镀在PE透明薄膜上制备而成的。
在上述真空蒸镀法蒸镀蒸发膜料时,装置的真空度控制在8.2×10-3Pa,所述Cr的蒸发速率为0.4nm/s,所述SiO2的蒸发速率为0.2nm/s。
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