[发明专利]流体压力缸有效
| 申请号: | 201310656196.5 | 申请日: | 2013-12-06 |
| 公开(公告)号: | CN103867522B | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
| 发明(设计)人: | 齐藤纯一;原耕二;佐藤俊夫 | 申请(专利权)人: | SMC株式会社 |
| 主分类号: | F15B15/14 | 分类号: | F15B15/14;F15B15/20 |
| 代理公司: | 上海市华诚律师事务所31210 | 代理人: | 梅高强,崔巍 |
| 地址: | 日本国东京都千*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 流体 压力 | ||
1.一种流体压力缸,其特征在于,包括:
缸主体(12),所述缸主体(12)具有一对端口(24、26)和缸内腔(28),所述一对端口用于供应和排出压力流体,所述压力流体从所述端口(24、26)引入所述缸内腔(28);
活塞(18),在所述活塞(18)上,活塞密封圈(44)安装在安装凹槽(42)中,所述安装凹槽(42)形成在所述活塞(18)的外周表面上,并且所述活塞(18)可沿着轴向移动地布置在所述缸内腔(28)的内部;和
盖构件(22),所述盖构件(22)安装在所述活塞(18)的一端侧并且具有减震部分(50),所述减震部分(50)吸收当所述活塞(18)在移动结束位置抵靠所述缸主体(12)时引起的震动,所述活塞(18)在所述移动结束位置移动至所述缸主体(12)的端部;
其中,所述盖构件(22)安装于其上的凹槽部(46)形成在所述活塞(18)的所述外周表面上,并且布置成接近所述安装凹槽(42),所述凹槽部(46)的外径小于所述活塞(18)的外径。
2.如权利要求1所述的流体压力缸,其特征在于,其中,所述盖构件(22)包括引导部分(52),所述引导部分(52)沿着所述缸主体(12)的所述轴向引导所述活塞(18),所述引导部分布置在所述减震部分(50)的外边缘部分上,并且安装成覆盖所述活塞(18)的所述外周表面的一部分,所述减震部分(50)在垂直于所述活塞(18)的移动方向上抵靠所述活塞(18)的端表面。
3.如权利要求2所述的流体压力缸,其特征在于,其中,所述盖构件(22)进一步包括钩部分(54),所述钩部分(54)布置在所述引导部分(52)的端部,并且所述钩部分(54)相对于所述引导部分(52)朝向所述活塞(18)的内周侧弯折。
4.如权利要求3所述的流体压力缸,其特征在于,其中,另一个凹槽部(48)设置在所述活塞(18)的所述外周表面上、在所述凹槽部(46)和所述安装凹槽(42)之间,所述另一个凹槽部(48)相对于所述凹槽部(46)径向地向内凹陷,所述钩部分(54)安装在所述另一个凹槽部(48)上。
5.如权利要求4所述的流体压力缸,其特征在于,其中,所述另一个凹槽部(48)形成为具有大于所述安装凹槽(42)的外径的外径。
6.如权利要求1所述的流体压力缸,其特征在于,其中,所述减震部分(50)布置成在垂直于所述活塞(18)的移动方向上覆盖所述活塞(18)的端表面。
7.如权利要求1所述的流体压力缸,其特征在于,其中,所述盖构件(22)由弹性材料形成。
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