[发明专利]一种宽光谱Offner成像光谱仪分光系统无效

专利信息
申请号: 201310638540.8 申请日: 2013-12-04
公开(公告)号: CN103604498A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 韩姗;黄元申;黄运柏;苏仰庆;丁伟涛;李柏承;徐邦联 申请(专利权)人: 上海理工大学
主分类号: G01J3/02 分类号: G01J3/02;G01J3/28;G02B27/10
代理公司: 上海申汇专利代理有限公司 31001 代理人: 吴宝根
地址: 200093 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 光谱 offner 成像 光谱仪 分光 系统
【权利要求书】:

1.一种宽光谱Offner成像光谱仪分光系统,其特征在于,包括光源(5)、两个凹面反射镜(1、3)、凸面光栅(2)和面阵探测器(4),凸面光栅(2)凸面对着两块凹面反射镜(1、3)凹面放置,使三者的球心均置于光轴Z上,光源(5)放置在垂直于光轴Z的平面内,并位于第一凹面反射镜(1)凹面前方,光源(5)发出的光束照射到第一凹面反射镜(1)上,经过第一凹面反射镜(1)反射到凸面光栅(2)上,经过凸面光栅(2)后得到的衍射光谱再照射到第二凹面反射镜(3)上,最后经第二凹面反射镜(3)汇聚到面阵探测器(4)上。

2.根据权利要求1所述宽光谱Offner成像光谱仪分光系统,其特征在于,所述凸面光栅(2)的曲率半径为88.7mm,刻线数为100/mm的等间距刻槽,第一凹面反射镜(1)的曲率半径为160.9mm,第二凹面反射镜(3)的曲率半径为160.1mm,将凸面光栅(2)和两凹面反射镜(1、3)的球心均置于光轴Z上。

3.根据权利要求2所述宽光谱Offner成像光谱仪分光系统,其特征在于,所述光源(5)距离第一凹面反射镜(1)为123.9mm,此距离是指光源(5)在Z轴上的垂点和第一凹面反射镜(1)与Z轴的交点之间的距离;两凹面反射镜(1、3)与凸面光栅(2)的距离同时为75.7mm,此距离是指两凹面反射镜(1、3)和凸面光栅(2)分别与Z轴的交点之间的距离;将面阵探测器(4)放置在距离第二凹面反射镜(3)189.4mm处,此距离是指面阵探测器在Z轴上的垂点和第二凹面反射镜(3)与Z轴的交点之间的距离,面阵探测器取-1级光谱。

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