[发明专利]一种湿式镜面研磨抛光的方法有效
申请号: | 201310615007.X | 申请日: | 2013-11-28 |
公开(公告)号: | CN103624657A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 潘刚 | 申请(专利权)人: | 潘刚 |
主分类号: | B24B27/00 | 分类号: | B24B27/00;B24B37/04 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 246000 安徽省安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 湿式镜面 研磨 抛光 方法 | ||
技术领域
本发明涉及研磨工艺,尤其涉及的是,一种湿式镜面研磨抛光的方法。
背景技术
铝材及铝合金具有特殊的材料特性:材质轻,柔性强易于产品成型及阳极染色处理,因此,其在加工制造中使用的越来越广泛。
传统研磨工艺为人工干式打磨,其缺点为易燃,易爆,粉尘大,作业环境恶劣,打磨效率低。这样,铝材及铝合金经过机械加工后表面粗糙度一般在0.15Ra以上。
随着人们对电子消费性产品外观要求越来越苛刻,要求表面光滑细腻,甚至镜面,传统的打磨工艺很难达到此要求,并且,因铝分子在空气易被氧化,质地较软,采用一般的打磨砂纸粒度达到1500#时,就会出现无法散热排屑,从而造成产品表面氧化,发黑。即使是湿式打磨,当砂纸粒度数高于1500#进行打磨时所产生的铝粉较细,铝粉同样很难排除,一旦铝粉残留在砂粒表面,打磨时铝粉会对工件造成二次研磨,从而增加工件表面温度,加速工件氧化,发黑,无法继续研磨。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种新的湿式镜面研磨抛光的方法。
本发明的技术方案如下:一种湿式镜面研磨抛光的方法,其包括以下步骤:S1,判断铝材或铝合金工件表面的粗糙度,粗糙度大于0.3Ra则执行步骤S2,粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra则执行步骤S3,粗糙度小于0.1Ra则执行步骤S4;S2,设置机器为粗糙打磨模式,采用普通的打磨砂纸进行打磨至粗糙度大于等于0.1Ra且小于等于0.3Ra;S3,设置机器为搭配打磨模式,采用1500至5000目之间的柔性透气背基磨料进行搭配打磨,至粗糙度小于0.1Ra;S4,设置机器为抛光模式,采用抛光皮进行抛光处理;其中,采用循环过滤注液方式,循环使用抛光液。
优选的,所述方法中,步骤S2中,设置机器为粗糙打磨模式,其中,设置粒度为180至1500目,下一道打磨粒度比上一道打磨粒度大60至400目,打磨机转速大于50转/分。
优选的,所述方法中,步骤S3中,设置机器为搭配打磨模式,下一粒度将上一粒度的打磨痕进行覆盖,打磨机转速大于50转/分。
优选的,所述方法中,所述搭配打磨模式,采用1500目+3000目、1500+5000目、或者3000+5000目进行搭配进行打磨。
优选的,所述方法中,步骤S4之前,还执行以下步骤S41:判断工件的加工面积是否大于第一预设面积,是则在步骤S4中设置机器为偏转抛光模式,采用偏心打磨机粘抛光皮加抛光液进行抛光处理或者同心打磨机粘抛光皮加偏摆装置搭配抛光液进行抛光处理;否则在步骤S4中采用研磨机进行抛光处理;其中,打磨机转速大于50转/分。
优选的,所述方法中,步骤S41之前,还执行以下步骤S40:判断工件的加工面积是否小于第二预设面积,是则将工件装夹并列排好后执行步骤S4,否则执行步骤S41。
优选的,所述方法中,步骤S2中,采用抗氧化剂和润滑剂辅助打磨,采用循环过滤注液方式,循环使用抗氧化剂与润滑剂并将铝屑排出。
优选的,所述方法中,步骤S3中,采用抗氧化剂和润滑剂辅助打磨,打磨时通过对柔性透气背基磨料的挤压力,将打磨时所产生的铝屑挤压在柔性透气背基内,采用循环过滤注液方式,循环使用抗氧化剂与润滑剂并将铝屑排出。
优选的,所述方法中,所述柔性透气背基磨料采用碳化硅、陶瓷和/或金刚砂作为磨粒。
优选的,所述方法中,步骤S2至S4中,根据工件的粗糙度及工件的大小形状调节打磨路径或抛光路径。
优选的,所述方法中,步骤S2至S4中,通过力控装置或弹簧装置调节打磨或抛光的压力。
采用上述方案,本发明根据工件表面的粗糙度进行选择打磨,提高了处理效率,循环使用抛光液进行湿式镜面研磨抛光,不仅绿色环保,还节约了成本,具有很高的市场应用价值。
附图说明
图1为本发明的一个实施例的流程示意图。
具体实施方式
为了便于理解本发明,下面结合附图和具体实施例,对本发明进行更详细的说明。附图中给出了本发明的较佳的实施例。但是,本发明可以以许多不同的形式来实现,并不限于本说明书所描述的实施例。相反地,提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。
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