[发明专利]液晶配向剂及其应用有效

专利信息
申请号: 201310611342.2 申请日: 2013-11-26
公开(公告)号: CN103865548A 公开(公告)日: 2014-06-18
发明(设计)人: 许立道 申请(专利权)人: 奇美实业股份有限公司
主分类号: C09K19/56 分类号: C09K19/56;G02F1/1337
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 姚亮
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶 及其 应用
【说明书】:

技术领域

本发明有关一种液晶配向剂及其应用,特别是一种紫外光稳定性佳的液晶配向剂,及其所形成的液晶配向膜,以及具有该配向膜的液晶显示元件。

背景技术

由于消费者对液晶显示器的显示质量要求日益提升,使液晶显示元件需向高性能化发展,其中对液晶配向性、电压保持率、离子密度、影像残留等电性及/或显示质量的要求更甚以往,除了必须具有良好的初期特性外,更需于严苛环境下长期使用,尤其以具备良好的电压保持率及离子密度为主要考虑因素。当液晶显示元件的电压保持率降低时,显示质量则无法充分满足高对比、高穿透度的需求;而当离子密度提高时,则容易产生残影等问题。

专利合作条约国际公开第WO2008/078796号揭示了一种具有高电压保持率及低离子密度的液晶配向膜及一种用以制备合成液晶配向剂用的氮-取代二胺系(N-substituted diamine)化合物。该氮-取代二胺系化合物的结构如下式(1)所示:

其中,Ra1表示C1至C5的亚烷基;Ra2、Ra3为氢或C1至C4的烷基,且其中至少一者为C1至C4的烷基。通过使用该氮-取代二胺系化合物,所制得的配向膜可改善以往液晶显示元件电压保持率不佳及离子密度过高造成显示质量下降的问题。然而此类氮-取代二胺系化合物所形成的液晶配向膜却不堪长期使用,经紫外光照射一段时间后,电压保持率逐渐下降且离子密度上升,依旧造成液晶显示器对比低下并产生残影等问题。

由上述可知,为了符合目前液晶显示器品质的要求,提供一种紫外光稳定性佳的液晶配向剂,使其所形成的液晶配向膜应用于液晶显示元件时,在紫外光长时间照射下仍得以维持高电压保持率及低离子密度,为本技术领域亟待解决的问题之一。

发明内容

为解决上述技术问题,本发明利用具备特定数量平均分子量的聚烷氧基二醇二烷基醚(poly(oxyalkyleneglycol)dialkylether)化合物,而制备得到紫外光稳定性良好的液晶配向剂,由上述液晶配向剂所形成的液晶配向膜及液晶显示元件具有高电压保持率及低离子密度的优点。

因此,本发明提供一种液晶配向剂,其包含:

聚合物组合物(A),其是由二胺化合物(a)与四羧酸二酐化合物(b)反应而制得的;

溶剂(B);及

聚烷氧基二醇二烷基醚化合物(C);

其中,所述聚烷氧基二醇二烷基醚化合物(C)的数量平均分子量为250至2000。

本发明还提供一种液晶配向膜,其是由上述的液晶配向剂所制造的。

本发明又提供一种液晶显示元件,其包含上述的液晶配向膜。

为达上述目的,本发明提供一种液晶配向剂,其包含:

聚合物组合物(A),其是由二胺化合物(a)与四羧酸二酐化合物(b)反应而制得的;

溶剂(B);及

聚烷氧基二醇二烷基醚化合物(C);

其中,所述聚烷氧基二醇二烷基醚化合物(C)的数量平均分子量为250至2000。

本发明的聚合物组合物(A)是由二胺化合物(a)与四羧酸二酐化合物(b)反应而制得的。

根据本发明的具体实施方式,优选地,在上述液晶配向剂中,所述聚合物组合物(A)的具体例为聚酰胺酸聚合物、聚酰亚胺聚合物和聚酰亚胺系嵌段共聚物等中的一种或几种的组合。其中,优选地,所述聚酰亚胺系嵌段共聚物的具体例为聚酰胺酸嵌段共聚物、聚酰亚胺嵌段共聚物和聚酰胺酸-聚酰亚胺嵌段共聚物等中的一种或几种的组合。

上述的聚酰胺酸聚合物、聚酰亚胺聚合物及聚酰亚胺系嵌段共聚物皆可由二胺化合物(a)及四羧酸二酐化合物(b)反应所制得。

根据本发明的具体实施方式,优选地,在上述液晶配向剂中,所述二胺化合物(a)的具体例为(1)脂肪族二胺化合物、(2)脂环族二胺化合物、(3)芳香族二胺化合物,或(4)结构式(I-1)至(I-16)所示的二胺化合物等,且所述二胺化合物(a)可以单独一种使用或者混合几种使用。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于奇美实业股份有限公司,未经奇美实业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310611342.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top