[发明专利]研磨速率侦察装置、研磨设备及实时侦察研磨速率的方法

权利要求书

1.一种研磨速率侦察装置，应用于研磨机台中，所述研磨侦察装置能够实时侦察所述研磨机台的研磨速率，其特征在于，包括：

一研磨垫整理盘；

与所述研磨垫整理盘连接的用于驱动所述研磨垫整理盘的马达；

与所述马达连接的用于实时显示所述马达的工作电压的电压侦测器；

其中，所述研磨速率侦察装置和所述研磨机台启动时，所述马达驱动所述研磨垫整理盘转动，所述研磨垫整理盘通过所述研磨机台的研磨速率的改变使所述马达的输出功率改变，所述电压侦测器根据所述马达的输出功率实时显示所述马达的工作电压。

2.如权利要求1所述的一种研磨速率侦察装置，其特征在于，所述马达驱动所述研磨垫整理环绕所述研磨垫整理盘的轴线旋转。

3.一种研磨设备，其特征在于，包括研磨机台，设置于所述研磨机台内的如权利要求1或2所述的研磨速率侦察装置，所述研磨速率侦察装置包括研磨垫整理盘、马达以及电压侦测器；

所述研磨机台还包括一研磨盘，所述研磨盘的上表面设置有一研磨垫，所述研磨垫完全覆盖在所述研磨台的上表面；在所述研磨垫上方设置有一机械手臂，所述机械手臂通过连接轴把所述研磨垫整理盘固定在所述机械臂的一端，所述研磨垫整理盘位于所述研磨垫上方；

其中，所述研磨速率侦察装置和所述研磨机台启动时，所述研磨盘带动所述研磨垫转动，同时所述马达驱动所述研磨垫整理盘转动，所述研磨垫整理盘和所述研磨垫的上表面接触产生摩擦力；所述研磨垫整理盘通过所述研磨机台的研磨速率的改变使得所述摩擦力改变，从而使所述马达的输出功率改变，所述电压侦测器根据所述马达的输出功率实时显示所述马达的工作电压。

4.如权利要求3所述的一种研磨设备，其特征在于，所述化学机械研磨的机台设有1-3个所述研磨盘。

5.如权利要求3所述的一种研磨设备，其特征在于，所述研磨垫上表面上方还设有研磨液管道，所述研磨液管道向研磨垫喷洒研磨液。

6.如权利要求3所述的一种研磨设备，其特征在于，所述研磨垫上方还设有研磨头，所述研磨头面向研磨垫的那表面上设有夹持环，所述夹持环可夹持晶圆。

7.如权利要求3所述的一种研磨设备，其特征在于，所述研磨垫调整盘与所述研磨垫相接触的表面上均匀设有若干钻石。

8.如权利要求3所述的一种研磨设备，其特征在于，所述研磨盘下表面的中心连接有一旋转轴，所述旋转轴带动所述研磨盘及所述研磨垫围绕所述旋转轴轴线旋转，产生研磨速率。

9.一种实时侦察研磨速率的方法，应用于研磨机台中，其特征在于，所述方法包括：

步骤1：在研磨机台内预设一研磨速率侦察装置，所述研磨速率侦察装置包括研磨垫整理盘、马达以及电压侦测器；

步骤2：启动所述研磨速率侦察装置和所述研磨机台，所述马达驱动所述研磨垫整理盘转动，所述研磨垫整理盘通过所述研磨机台的研磨速率的改变使所述马达的输出功率改变，所述电压侦测器根据所述马达的输出功率实时显示所述马达的工作电压；

步骤3：判断所述电压侦测器实时显示的所述马达的工作电压是否超过标准工作电压范围，若是，则判定所述研磨机台的研磨速率过快或过慢，需要进一步调整所述研磨机台的研磨速率，若否，则判定所述研磨机台的研磨速率正常，无需调整。

10.如权利要求9所述的一种实时侦察研磨速率的方法，其特征在于，所述研磨机台包括研磨盘和设置于所述研磨盘上表面的研磨垫，所述研磨垫整理盘位于所述研磨垫上方；在所述步骤2中，启动所述研磨速率侦察装置和所述研磨机台，所述研磨盘带动所述研磨垫转动，同时所述马达驱动所述研磨垫整理盘转动，所述研磨垫整理盘和所述研磨垫的上表面接触产生摩擦力；所述研磨垫整理盘通过所述研磨机台的研磨速率的改变使得所述摩擦力改变，从而使所述马达的输出功率改变，所述电压侦测器根据所述马达的输出功率实时显示所述马达的工作电压，并判断所述马达的工作电压是否超过标准工作电压范围。