[发明专利]一种气路系统的显示方法和装置

说明书

技术领域

本发明涉及半导体设备的控制技术领域，特别是涉及一种气路系统的显示方法和一种气路系统的显示装置。

背景技术

半导体设备中，执行工艺用到了很多不同种类的气体，工艺反应气体进入工艺腔室形成等离子体用于刻蚀、PVD（Physical Vapor Deposition，物理气相沉积）、CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气象沉积）等半导体设备。其中工艺腔室中一个重要的辅助系统就是气路系统，为方便用户直观地了解半导体设备的气路系统的状况，需要在控制界面显示该气路系统的状况。

现有技术中，用户根据设备所需的管路和阀门的实际情况，手动地采用系统自带的控件PictureBox进行堆积，绘出所有的气路系统，以刻蚀设备为例，最终获取如图1所示的气路系统。其中，每个竖直的管路、管路连接处、管路拐角处都是一个控件，例如图2所示的气体管道，由A-H共八小控件组成。

由于气体管道数量较多，所以整个气路系统使用的控件个数就很多。为了能在有限的空间将所有气路信息显示完整，只能单独做出一个专门显示气路系统的模块，用户如果想查看当前气路的状态，则必须切换到该模块。

由于整个气路系统使用的控件个数较多，切换模块时，进行加载就需要消耗大量内存。

不同用户可能会对气体管道需求不同，比如需要增加或者减少气体管道时，只能手动的删除部分管路。为了整体的美观，往往只能重新手动调整整个页面布局，操作繁琐。

由于气路系统的控件不尽相同，其堆积方法不能兼容其他设备，如果用到其它设备，需要修改界面及代码，不具备可复用性，操作麻烦。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是提供一种气路系统的显示方法，以解决占用内存大，操作麻烦的问题。

本发明还提供了一种气路系统的显示装置，用以保证上述方法的实现及应用。

为了解决上述问题，本发明公开了一种气路系统的显示方法，所述气路系统包括气体管道和气路仪器，所述方法包括：

在预置的绘制窗口中，采用线条展现所述气体管道的排布；其中，所述线条携带有相对坐标的信息；

在所述线条上添加气路控件的展现，所述气路控件用于表征所述气路仪器在所述气体管道上的分布以及对应气路仪器的状态；

采用所述相对坐标的信息计算所述线条和所述气路控件的显示位置；

在所述显示位置展现所述线条和气路控件。

优选地，所述气路仪器包括摆阀、排空阀、干泵、分子泵和/或质量流量控制器；

所述气路控件包括摆阀控件、排空阀控件、干泵控件、分子泵控件和/或质量流量控制器控件。

优选地，所述气路系统包括多条特征气路，所述特征气路对应有复用气路模块进行展现；所述复用气路模块包括十二路线条，所述十二路线条都具有管道显示属性和排空阀显示属性；所述管道显示属性包括显示和不显示；所述排空阀显示属性包括显示和不显示；

所述在预置的绘制窗口中，采用线条展现所述气体管道的排布的步骤包括：

配置所述复用气路模块中的十二路线条的管道显示属性；

当所述线条的管道显示属性为显示时，则显示所述线条；

当所述线条的管道显示属性为不显示时，则不显示所述线条；

所述在所述线条上添加气路控件的展现的步骤包括：

配置所述复用气路模块中的十二路线条的排空阀显示属性；

当所述线条的管道显示属性为显示且所述排空阀显示属性为显示时，则在所述线条上展现对应的排空阀控件；

当所述线条的管道显示属性为不显示或所述排空阀显示属性为不显示时，则不在所述线条上展现对应的排空阀控件。

优选地，所述线条具有管道宽度属性、管道颜色属性和/或管道名称属性；

所述管道宽度属性为控制所述线条的宽度的属性；

所述管道颜色属性为控制所述线条的颜色的属性；

所述管道名称属性为显示所述线条对应的气体管道里气体的名称的属性；

所述方法还包括：

配置所述线条的管道宽度属性、管道颜色属性和/或管道名称属性；

按照所述管道宽度属性、管道颜色属性和/或管道名称属性进行对应的展现。

优选地，所述采用所述相对坐标的信息计算所述线条和所述气路控件的显示位置的步骤包括：

分别计算所述显示窗口的高度、宽度与所述显示位置的高度、宽度的比值，获得高度比和宽度比；