[发明专利]光学活性四氢呋喃-2-甲酸的制造方法有效
申请号: | 201310572133.1 | 申请日: | 2013-11-14 |
公开(公告)号: | CN104031010A | 公开(公告)日: | 2014-09-10 |
发明(设计)人: | 平贺悠文;森本正雄;西村朋晃 | 申请(专利权)人: | 东丽精细化工株式会社 |
主分类号: | C07D307/24 | 分类号: | C07D307/24 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 活性 呋喃 甲酸 制造 方法 | ||
1.通式
表示的高纯度(R)-或(S)-四氢呋喃-2-甲酸的制造方法,式中,*表示该碳原子是光学活性中心,所述制造方法包括下述3道工序:
(第一工序)将通式
表示的(R)-或(S)-四氢呋喃-2-甲酸与芳香族胺的盐在水中利用无机金属碱进行盐交换后,用烃系溶剂及/或醚系溶剂除去芳香族胺,得到含有(R)-或(S)-四氢呋喃-2-甲酸的水层的工序;式中,R1表示氢原子或卤素基团,R2表示氢原子或甲基,*表示该碳原子是光学活性中心;
(第二工序)在第一工序中得到的水层中添加无机酸,使pH呈酸性后,用四氢呋喃萃取的工序;
(第三工序)将第二工序中得到的萃取液浓缩及蒸馏的工序。
2.如权利要求1所述的高纯度(R)-或(S)-四氢呋喃-2-甲酸的制造方法,其中,芳香族胺为苄胺。
3.如权利要求1或2所述的高纯度(R)-或(S)-四氢呋喃-2-甲酸的制造方法,其中,(R)-或(S)-四氢呋喃-2-甲酸的化学纯度为99.0%以上。
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