[发明专利]激光热处理设备

权利要求书

1.一种激光热处理设备，其包括：

反应腔室，所述反应腔室允许晶片支撑件位于其内部空间中且包括设置在其顶面上的窗口；

部分除氧模块，所述部分除氧模块位于所述窗口与所述晶片支撑件之间且包括注射狭缝，惰性气体经由所述注射狭缝而注入；

激光发射器，所述激光发射器经由所述窗口将激光束发射到所述反应腔室的所述内部空间中；

圆筒，所述圆筒安装在所述部分除氧模块外部且包括入射狭缝，所述入射狭缝在所述圆筒的侧壁上沿着纵向方向形成为长的；

惰性气体注射管，所述惰性气体注射管插入到所述圆筒中且允许所述惰性气体经由所述注射狭缝流入；

惰性气体供应管，所述惰性气体供应管分别向所述惰性气体注射管的一端和另一端供应所述惰性气体；

流量计，所述流量计分别测量经由所述惰性气体注射管的一端和另一端注射的所述惰性气体的注射量；

缓冲流径，所述缓冲流径安装在所述圆筒与所述部分除氧模块之间并且其一端连接到所述注射狭缝且另一端连接到所述入射狭缝；以及

注射控制单元，所述注射控制单元根据所述惰性气体的测量注射量来个别地控制所述惰性气体注射管的一端和另一端的注射量。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于所述部分除氧模块包括：

底面，在所述底面上形成射束发射狭缝，所述激光束穿过所述射束发射狭缝；以及

侧壁，在所述侧壁中，沿着所述射束发射狭缝的纵向方向形成所述注射狭缝。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于所述惰性气体供应管包括：

第一惰性气体供应管，所述第一惰性气体供应管向所述惰性气体注射管的一端供应所述惰性气体；以及

第二惰性气体供应管，所述第二惰性气体供应管向所述惰性气体注射管的另一端供应所述惰性气体，以及

其中所述流量计包括：

第一流量计，所述第一流量计测量流经所述第一惰性气体供应管的所述惰性气体的流量；以及

第二流量计，所述第二流量计测量流经所述第二惰性气体供应管的所述惰性气体的流量。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于所述注射控制单元包括：

质量流量控制阀，所述质量流量控制阀分别控制流经所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管的所述惰性气体的所述流量；以及

注射控制器，所述注射控制器根据所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管的相应测量流量来控制所述质量流量控制阀。

5.根据权利要求4所述的设备，其特征在于所述注射控制器控制流入所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管中的所述惰性气体的流量，使其为均一的。

6.根据权利要求5所述的设备，其特征在于，当流经所述第一惰性气体供应管的所述惰性气体的流量大于流经所述第二惰性气体供应管的所述惰性气体的流量时，所述注射控制器控制供应给所述第一惰性气体供应管的所述惰性气体的所述流量使其逐渐变小，直到流入所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管中的所述惰性气体的流量变成均一为止。

7.根据权利要求4所述的设备，其特征在于所述注射控制器根据所述晶片支撑件的传送速度来控制供应给所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管的所述惰性气体的流量。

8.根据权利要求7所述的设备，其特征在于在所述晶片支撑件的所述传送速度增加时，所述注射控制器允许供应给所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管的所述惰性气体的流量增加。

9.根据权利要求7所述的设备，其特征在于在所述晶片支撑件的所述传送速度小于300m／s时所述注射控制器不用连续地监视供应给所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管的所述惰性气体的流量，且在所述晶片支撑件的所述传送速度为300m／s或300m／s以上时连续地监视供应给所述第一惰性气体供应管和所述第二惰性气体供应管的所述惰性气体的所述流量以便允许供应均一的流量。