[发明专利]用于生长碘化铯闪烁体的基板

说明书

技术领域

本发明属于功能薄膜材料的技术领域，更具体地说，本发明涉及一种用于生长碘化铯闪烁体的基板。

背景技术

无机闪烁体（inorganic scintillator）在辐射探测中起着非常重要的作用，广泛应用于影像核医学、核物理、高能物理、工业CT、油井勘探和安全检查等领域。目前研究和应用最多的是无机闪烁体，而这其中具有高亮度、高分辨率的碘化铯闪烁体应用最为广泛。但是碘化铯材料为吸湿性材料，当其吸收空气中的水分而潮解时，会使得闪烁体的特性，特别是图像分辨率大大降低，因此，如何有效的封装闪烁体更尤为重要。而不同的基板其封装的工艺也都不相同。

目前，作为代表性的碘化铯闪烁体，是以碳材料为基板来生长碘化铯闪烁体，封装方式为浜松光子学株式会社的镀膜封装方法，如专利为WO99/66348、WO02/23219以及JP170092/1998所公布的封装方法。该碘化铯闪烁体封装方式首先通过CVD法在碘化铯表面镀一层厚为10um的聚 对二甲苯层，然后溅射一层200nm的SiO₂膜，最后CVD法形成一层10um聚对二甲苯层。

然而，利用CVD法蒸镀聚对二甲苯膜及溅射SiO₂层作为用来使闪烁体免受湿气影响的防湿屏障。这种封装技术存在生产成本很高和生产率很低。为了解决这个问题，利用防水性好的薄膜进行封装，但由于基板为不透明的碳材料，所以防水薄膜必须是透明材质才可以满足出光要求，因此，这种薄膜即需要很低的水蒸气透过率，又需要很高的可见光透过率。能够满足这些性能条件要求的薄膜非常少，同样成本也很高。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种用于生长碘化铯闪烁体的基板，使生长在所述基板上的碘化铯闪烁体可以利用常见的防水金属膜进行密封，大大节约闪烁体的防水密封成本，提高闪烁体生产率。

为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：提供一种用于生长碘化铯闪烁体的基板，包括基板本体，所述基板本体的上表面设有光滑平整层，所述基板本体的下表面设有凹凸不均的漫反射层，且所述基板本体为透明基板本体。

在本发明的一个较佳实施例中，所述光滑平整层的上表面敷设有增透膜。

在本发明的一个较佳实施例中，所述漫反射层为非各向同性光学漫反射层。

在本发明的一个较佳实施例中，所述基板本体的材质为玻璃。

在本发明的一个较佳实施例中，所述基板本体的厚度为0.5-3mm。

在本发明的一个较佳实施例中，所述光滑平整层的平面度小于等于0.2 mm。

本发明的有益效果是：采用高可见光透过率的材料作为基板材料，使经过碘化铯闪烁体转化出来的可见光可以完全的透过基板，从而大大提高闪烁体的亮度性能；在基板的下表面敷设非各向同性光学漫反射层，使得闪烁屏外的光源不会在基板的下表面产生反射影像，不会产生伪影等反光现象，能够大大提高闪烁体的图像质量；同时，也不会因为碘化铯上表面的颗粒或封装薄膜上产生折皱、气泡等异常而影响其X射线探测器的成像。

附图说明

图1为本发明一种用于生长碘化铯闪烁体的基板的结构示意图；

图2为本发明的碘化铯闪烁体封装后的结构示意图；

附图中各部件的标记如下：1、基板本体，2、光滑平整层，3、漫反射层，4、闪烁体层，5、封装铝膜。

具体实施方式

下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

请参阅图1，本发明实施例包括：

一种用于生长碘化铯闪烁体的基板，包括基板本体1，所述基板本体1的厚度为0.5～3mm，在本实施例中，所述基板本体1的材质为玻璃，具有一定的防水性，该基板本体1的可见光透过率大于等于80%、水蒸气透过率小于等于0.1g/m2·day-1，且其厚度为2.5mm。

所述基板本体1的上表面设有光滑平整层2，所述光滑平整层2的上表面可以敷设增透膜，用于提高整个基板的透过率，且所述光滑平整层3的平面度小于等于0.2 mm。

所述基板本体1的下表面设有漫反射层3，所述漫反射层3为利用金刚砂打磨或化学方法（化学腐蚀）处理形成的非各向同性光学漫反射层，其反射率小于等于10%，所述非各向同性光学漫反射层的表面凹凸不均，从而对可见光进行无规则性的反射，使得在所述基板的漫反射层不会反射成像，起到防眩作用，从而提高闪烁体性能。