[发明专利]一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法。

背景技术

低辐射玻璃是指对红外辐射具有高反射率，对可见光具有良好透射率的平板镀膜玻璃。低辐射玻璃具有良好的透光、保温、隔热性能，广泛应用于窗户、炉门、冷藏柜门等地方。

目前市场上较常见的低辐射玻璃有单银低辐射玻璃、双银低辐射玻璃、热控低辐射玻璃及钛基低辐射玻璃等。现有的这四种低辐射玻璃在380～780纳米的可见光波长范围内透射率不够高，仅为50％左右；在红外辐射波长范围内透射率较高，尤其是在900～1100纳米的波长范围内透射率为10～20％之间。故此，现有的透明玻璃基材有待于进步完善。

发明内容

本发明的目的是为了克服现有技术中的不足之处，提供一种工艺简单，操作方便，生产成本相对较低的金色双银LOW-E膜的制备。

为了达到上述目的，本发明采用以下方案：

一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：

A、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射不锈钢平面靶，在玻璃基板上磁控溅射SSTO_x层；

B、采用氮气作为反应气体，氩气作为保护气体，直流电源溅射铬平面靶，在步骤A中SSTOx层上磁控溅射CrN_x层；

C、采用氩气作为反应气体，直流电源溅射银平面靶，在步骤B中的CrN_x层上磁控溅射Ag层；

D、采用氩气作为反应气体，直流电源溅射铜平面靶，在步骤C中Ag层上磁控溅射Si层；

E、采用氩气作为反应气体，交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶，在步骤D中的Si层上磁控溅射AZO层；

F、采用氩气作为反应气体，直流电源溅射铜平面靶，在步骤E中的AZO层上磁控溅射Cu层；

G、采用氩气作为反应气体，交流电源溅射掺铝氧化锌陶瓷旋转靶，在步骤F中的Cu层上磁控溅射AZO层；

H、采用氧气作为反应气体，氩气作为保护气体，交流电源溅射硅铝合金旋转靶，在步骤G中的AZO层上磁控溅射SiO₂层。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤A中所述SSTOx层的厚度为30～45nm，所述氩气与氧气的体积比为1：2，所述直流电源溅的溅射功率为75～115KW，分两个阴极溅射。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤B中所述CrN_x层的厚度为3～5nm，氩气与氮气的体积比为1：2，所述直流电源溅射铬平面靶的溅射功率3～6KW。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤C中所述Ag层的厚度为8～10nm，所述的直流电源的溅射功率4～5KW。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤D所述Si层的厚度为10～20nm，所述直流电源的溅射功率3～6KW。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤E中所述AZO层的厚度为50～65nm，掺铝氧化锌陶瓷旋转靶中按质量百分比掺铝2%，所述交流电的溅射功率50～65KW；用三个旋转阴极溅射。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤F中所述Cu层的厚度为8～10nm，所述直流电源的溅射功率为4～5KW。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤G中所述AZO层的厚度为20～25nm，掺铝氧化锌陶瓷旋转靶中按质量百分比掺铝2%，所述交流电源的溅射功率为20～25KW。

如上所述的一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，其特征在于步骤H中所述SiO₂层的厚度为20～30nm，所述硅铝合金旋转靶中Si与Al的摩尔比为92:8，交流电源溅射功率为50～75KW。

综上所述，本发明的有益效果：

本发明工艺方法简单，操作方便，生产成本相对较低，膜层结构最少，阴极使用量少；节约成本；24K金色调，颜色鲜艳；用Ag及Cu替代Au大幅度降低成本。

具体实施方式

下面结合具体实施方式对本发明做进一步描述：

实施例1

本发明一种低成本金色低辐射率薄膜的制备方法，包括以下步骤：