[发明专利]摩擦布及摩擦装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种摩擦布及摩擦装置。

背景技术

液晶面板制备过程中，需要在TFT（Thin Film Transistor，薄膜晶体管）基板和CF（Color Filter，彩色滤光片）基板的取向膜上分别形成取向沟槽，这样，当将TFT基板和CF基板对盒，并在其中注入液晶分子时，液晶分子就能够根据取向沟槽形成预倾角，便于液晶分子在电场作用下进行偏转。

一般采用摩擦工艺在取向膜上形成取向沟槽，例如可以利用粘贴在摩擦辊上的摩擦布在取向膜表面快速摩擦，从而在取向膜上形成微细的取向沟槽。

在取向沟槽的形成过程中，摩擦布在取向膜表面摩擦时会产生摩擦静电，该摩擦静电可能使得TFT基板短路，从而损伤TFT元件，导致TFT基板产生缺陷，使液晶面板品质不良。另外，摩擦时产生的摩擦静电也会增加摩擦碎屑的数量，摩擦过程中，摩擦碎屑夹在摩擦布与基板之间会导致基板受力不均匀，从而产生不需要的划痕，导致液晶面板的显示品质降低。

发明内容

本发明的主要目的在于，提供一种摩擦布及摩擦装置，能够减少摩擦过程中的摩擦静电，有效提高了液晶面板的合格率。

为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：

一方面，本发明提供了一种摩擦布，包括导电纱线，所述导电纱线包括导电纤维，所述导电纤维包括纤维基质和分散于所述纤维基质内部的导电剂。

优选地，所述导电剂包括导电基质和分散粒子，所述导电基质用于传导电荷，所述分散粒子用于使所述导电基质分散分布。

优选地，所述导电基质包括：碳纳米管、镍纳米线、金纳米线、银纳米线和石墨烯的至少一种。

可选地，所述分散粒子包括：金属微粒和/或金属化合物微粒。

可选地，所述金属微粒包括：金、银、铜、铁、锡、锌、铝、锰和钛中的至少一种；

所述金属化合物微粒包括：氧化银、氧化钛、氧化锰、氧化锌、氧化锡、氧化镍、氧化铁、氧化铝、硫化亚铜和硫化铜中的至少一种。

可选地，所述分散粒子的粒径≤500nm。

优选地，所述分散粒子的粒径≤50nm。

进一步地，所述导电纤维中，所述导电剂的含量为5～50wt.%。

优选地，所述导电纤维中，所述导电剂的含量为7～20wt.%。

进一步优选地，所述导电纤维中，所述导电剂的含量为10wt.%。

可选地，所述导电纱线还包括非导电纤维，所述非导电纤维和所述导电纤维分散分布。

进一步地，所述摩擦布还包括非导电纱线，所述非导电纱线包括非导电纤维；所述导电纱线和所述非导电纱线交错分布。

优选地，所述非导电纤维的静电序列与所述导电纤维的静电序列不同。

可选地，所述摩擦布中，所述导电纱线的体积含量为15～100%。

另一方面，本发明还提供了一种摩擦装置，包括上述技术方案提供的任一种所述的摩擦布。

本发明实施例提供的摩擦布及摩擦装置，由于所提供的摩擦布中的导电纱线包括导电纤维，且导电纤维包括纤维基质和分散于纤维基质内部的导电剂，导电剂可以在纤维基质内部形成导电通道，因此，当摩擦布在取向膜表面摩擦时，产生的摩擦静电会沿着导电纱线中导电纤维内部的导电通道导出，并通过电晕放电将摩擦静电去除，可以有效的减少摩擦静电对设置在取向膜上的电路及TFT元件的损伤；并且，摩擦静电的减少，还会使得摩擦碎屑减少，从而减少了由摩擦碎屑导致的不必要的划痕，可以有效提高取向膜的合格率，提高液晶面板的显示品质。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种摩擦布中单根导电纤维的横截面示意图；

图2（a）为本发明实施例提供的采用V型编织方式编织而成的摩擦布的示意图；

图2（b）为本发明实施例提供的采用W型编织方式编织而成的摩擦布的示意图；

图3为本发明实施例提供的一种摩擦布中导电纱线和非导电纱线与取向膜摩擦时产生静电荷的情况示意图；

图4为本发明实施例提供的另一种摩擦布中导电纱线和非导电纱线与取向膜摩擦时产生静电荷的情况示意图；