[发明专利]内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统无效
申请号: | 201310557914.3 | 申请日: | 2013-11-11 |
公开(公告)号: | CN103558238A | 公开(公告)日: | 2014-02-05 |
发明(设计)人: | 丁永坤;曹柱荣;邓博;董建军;黎宇坤 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | G01N23/04 | 分类号: | G01N23/04 |
代理公司: | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人: | 杨元焱 |
地址: | 621900 四川省绵*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 内爆芯部 发射 诊断 光谱 显微 成像 系统 | ||
1.一种内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,用于X射线源的多能段二维图像测量,其特征在于:包括顺序设置的前置滤片、KB显微镜、多层胶片和CCD;所述KB显微镜使用两组双周期多层膜叠加作为X射线反射材料;所述多层胶片为多层单面涂层的X射线胶片的叠加。
2.根据权利要求1所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述前置滤片具有低能截止特性,并且能够保护KB显微镜不受到X射线源产生的等离子体的损坏。
3.根据权利要求2所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述的前置滤片的材料选自C、Be或聚对二甲苯。
4.根据权利要求1所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述两组双周期多层膜中,一组为高能反射双周期多层膜,镀制于KB显微镜的镜面基底上,另一组为低能反射高能透射双周期多层膜,镀制于高能反射双周期多层膜上。
5.根据权利要求4所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述的双周期多层膜的材料选自W/C、W/B4C、Cr/C、V/B4C或W/Si。
6.根据权利要求4所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述的高能反射双周期多层膜的材料为W/C,所述的低能反射高能透射双周期多层膜的材料为Cr/C。
7.根据权利要求1所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述多层胶片的层数为2~4层。
8.根据权利要求1所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述多层胶片的层数为两层。
9.根据权利要求1所述的内爆芯部自发射诊断用多光谱显微成像系统,其特征在于:所述CCD采用型号为SI 1000的CCD,像素阵列为4k×4k。
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