[发明专利]光学记录介质基板及其制造方法、光学记录介质有效
| 申请号： | 201310553657.6 | 申请日： | 2013-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN103824571B | 公开（公告）日： | 2018-08-07 |
| 发明（设计）人： | 中山比吕史;竹本宏之;菊地稔;松浦穗 | 申请（专利权）人： | 索尼公司 |
| 主分类号： | G11B7/245 | 分类号： | G11B7/245;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 余刚;吴孟秋 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学记录介质基板：
所述光学记录介质基板是平均分子量在15000至16000的范围内且25℃下的单位体积质量在1.1930g/cm3至1.2000g/cm3的范围内的聚碳酸酯。
2.根据权利要求1所述的光学记录介质基板，其中，所述聚碳酸酯的密度在退火条件下进行控制。
3.一种光学记录介质，包括：
光学记录介质基板，所述光学记录介质基板是平均分子量在15000至16000的范围内且25℃下的单位体积质量在1.1930g/cm3至1.2000g/cm3的范围内的聚碳酸酯。
4.根据权利要求3所述的光学记录介质，进一步包括：
透明覆盖层，在所述光学记录介质基板的信息读出表面侧。
5.一种光学记录介质基板的制造方法，包括：
在模具中填充并注塑成型平均分子量在15000至16000的范围内且25℃下的单位体积质量在1.1930g/cm3至1.2000g/cm3的范围内的聚碳酸酯；以及
在所述模具中进行冷却达6秒以上。
6.根据权利要求5所述的光学记录介质基板的制造方法，包括：
在从所述模具中取出所述光学记录介质基板之后，在所述光学记录介质基板的信息读出表面侧形成透明覆盖层。
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