[发明专利]浇注系统无效
申请号: | 201310549612.1 | 申请日: | 2013-11-07 |
公开(公告)号: | CN103586415A | 公开(公告)日: | 2014-02-19 |
发明(设计)人: | 高丽丽;王玉雷;周坚 | 申请(专利权)人: | 中国南方航空工业(集团)有限公司 |
主分类号: | B22C9/08 | 分类号: | B22C9/08;B22C9/04 |
代理公司: | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人: | 吴贵明;张永明 |
地址: | 412002*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 浇注 系统 | ||
技术领域
本发明涉及精密铸造领域,特别地,涉及一种浇注系统。
背景技术
气孔是精铸件常见的缺陷之一,特别是对一些含气量较高的母合金材料,气孔缺陷成为其铸件报废的主要原因。目前气孔缺陷主要靠热等静压或在熔炼过程中加入一些盐类来去除。热等静压法需要专门的设备,而且成本较高,加入盐类的方法较简单,但是其加入量不易控制,且对母合金的成分有影响。现有的组树方式整个模组的排气性不好,浇注后同一模组内各个铸件的冶金质量不同,有的气孔缺陷很严重,有的气孔缺陷较少。设计一种排气条件更好,同一模组内铸件排气条件相当的浇注系统很有必要。
发明内容
本发明目的在于提供一种浇注系统,以解决铸件气孔缺陷的技术问题。
为实现上述目的,本发明提供了一种浇注系统,包括多个蜡模;横浇道,横浇道的第一侧与多个蜡模相连通;横浇道的第二侧设置有浇口杯;多个排气道,多个排气道的一端设置在横浇道的第二侧上。
进一步地,横浇道为圆盘型。
进一步地,多个蜡模均布在圆盘型横浇道的边缘上。
进一步地,与每个蜡模相对的横浇道的第二侧设置有排气道。
进一步地,与每两个蜡模相对的横浇道的第二侧的中间位置设置有排气道。
进一步地,横浇道的第一侧设置有八个蜡模,横浇道的第二侧设置有四个排气道。
进一步地,每个蜡模与浇口杯的轴线距离相同。
进一步地,蜡模与横浇道之间设置有内浇口。
进一步地,多个排气道的另一端与浇口杯相连通。
本发明具有以下有益效果:
通过在横浇道上设置多个排气道,排气道增强了模组的排气性,减少了铸件了气孔,提高铸件的冶金质量。
除了上面所描述的目的、特征和优点之外,本发明还有其它的目的、特征和优点。下面将参照图,对本发明作进一步详细的说明。
附图说明
构成本申请的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1是根据本发明的浇注系统的轴测示意图;以及
图2是根据本发明的浇注系统的主视示意图。
附图中的附图标记如下:10、蜡模;20、横浇道;30、浇口杯;40、排气道;50、内浇口。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
参见图1和图2,根据本发明的浇注系统,包括多个蜡模;横浇道,横浇道的第一侧与多个蜡模相连通;横浇道的第二侧设置有浇口杯;多个排气道,多个排气道的一端设置在横浇道的第二侧上。通过在横浇道上设置多个排气道,排气道增强了模组的排气性,减少了铸件了气孔,提高铸件的冶金质量。
浇注系统由蜡模10、内浇口50、圆盘型横浇道20、排气道40、浇口杯30五部分组成。浇口杯30与圆盘型横浇道20直接相连,蜡模10和内浇口50以圆周型排布于盘型横浇道20上。在这种排布方式下,模组内蜡模10的数量与排气道40的数量成一定比例,在同一条件下产生气孔缺陷的几率相当,冶金质量相对稳定。
参见图1和图2,横浇道为圆盘型。多个蜡模均布在圆盘型横浇道的边缘上。横浇道的第一侧设置有八个蜡模,横浇道的第二侧设置有四个排气道。每个蜡模与浇口杯的轴线距离相同。
参见图1和图2,每个蜡模10在横浇道20上相对设置一个的排气道40。或者每两个横蜡模10在横浇道20上对应设置一个共用的排气道40。为进一步增强浇注系统的排气性能,在盘型横浇道20的增加排气道40,该排气道40由盘型横浇道20直接连接到浇口杯30上,排气道40与蜡模10的相对位置关系。排气道40和蜡模10的数量根据盘型横浇道20和蜡模10的尺寸确定,排气道40的位置尽可能保证模组内各个蜡模10的排气道40的距离相等。
参见图1和图2,蜡模与横浇道之间设置有内浇口50。
参见图1和图2,多个排气道的另一端与浇口杯相连通。
从以上的描述中,可以看出,本发明上述的实施例实现了如下技术效果:
通过在横浇道上设置多个排气道,排气道增强了模组的排气性,减少了铸件了气孔,提高铸件的冶金质量。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已,并不用于限制本发明,对于本领域的技术人员来说,本发明可以有各种更改和变化。凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
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