[发明专利]分离峰的基线调整方法和具有基线调整功能的色谱工作站有效

专利信息
申请号: 201310548546.6 申请日: 2013-11-07
公开(公告)号: CN104634906B 公开(公告)日: 2018-07-13
发明(设计)人: 王灿;王悦;王铁军;李维森 申请(专利权)人: 苏州普源精电科技有限公司
主分类号: G01N30/86 分类号: G01N30/86
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王学强
地址: 215163 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基线 基线调整 落点 色谱工作站 定量分析 贯穿 预备 减小 省力 查找
【说明书】:

发明提供了一种分离峰的基线调整方法和具有基线调整功能的色谱工作站,所述方法包括:a1,连接分离峰的起点和落点,形成预备基线;步骤a2,判断是否存在基线贯穿,若是,则执行a3,若否,执行a4;a3,查找分离峰上的贯穿点,当存在一个贯穿点时,从分离峰的第一端点开始,在分离峰上逐点向分离峰的顶点靠近作为实验点,连接实验点与分离峰的第二端点形成新的预备基线,直到不存在基线贯穿,执行a4;其中,第一端点为起点,第二端点为落点;或者第一端点为落点,第二端点为起点;a4,将最新形成的预备基线作为调整后的实际基线。本发明能够减小对待测样品的分离峰进行定量分析时的误差,提高定量分析的准确性,并且省事省力。

技术领域

本发明涉及测试测量技术领域,特别是涉及一种分离峰的基线调整方法和一种具有基线调整功能的色谱工作站。

背景技术

目前业界的色谱仪都提供有色谱工作站,色谱工作站相当于一个上位机,一方面完成对下位机(即色谱仪)的控制,另一方面对下位机采集到的色谱数据进行分析处理,以达到对待测样品的定量分析。

对待测样品的定量分析主要依赖于样品对应谱峰的峰面积或者峰高。谱峰的峰面积是指谱峰与基线所围成的面积,谱峰的峰高是指谱峰顶点到基线的距离。所以基线的位置将直接影响谱峰的峰面积及峰高,进而影响对待测样品定量分析的准确性,准确确定基线至关重要。

按照分离度来划分,谱峰通常包括分离峰和融合峰这两种类型,分离峰是指两峰之间的分离度大于1.5的谱峰,分离峰为单一谱峰;融合峰是指峰与峰之间的分离度小于1.5的谱峰,融合峰包括两个或两个以上的谱峰。分离度是指两个相邻的谱峰的分离程度,是化学分析领域专有名词,也称分辨率。按照基线位置来划分,谱峰通常包括正峰和负峰这两种类型,正峰的顶点在基线以上,负峰的顶点在基线以下。

对于分离峰,如图1(a)所示,为正分离峰(即分离峰为正峰)的谱图示意图;如图1(b)所示,为负分离峰(即分离峰为负峰)的谱图示意图,谱峰与基线所围成区域的面积就是分离峰的峰面积。现有的色谱工作站一般在完成谱峰识别后自动确定基线,如图1(a)和图1(b)所示,连接分离峰的起点A和落点(又称终点)B直接形成基线,图1(a)和图1(b)所示的分离峰与基线不存在贯穿。如果出现基线贯穿,工作站不进行自动调整,需要实验员手动调整。如图2(a)和图2(b)所示,为分离峰与基线贯穿时的示意图。基线贯穿时,正分离峰谱图的某些数据点的位置低于预备基线的位置,负分离峰谱图的某些数据点的位置高于预备基线的位置,在谱图上,基线与分离峰具有除起点A和落点B以外的其他交点,如图2(a)和图2(b)中的交点C1、C2,交点C1、C2称之为贯穿点。

上述方法至少存在下述缺陷:

1、色谱工作站自动确定基线后,如果出现基线贯穿而不进行调整,那么计算出的谱峰的峰面积及峰高不准确,进而影响对待测样品定量分析的准确性。

2、如果出现基线贯穿后,由实验员手动进行基线调整,一方面,增加一个手动步骤,费时费力,给实验员的定量分析带来一定的麻烦;另一方面,手动确定谱峰的起点和落点的位置不准确,肯定会存在一定程度的误差,最终还会影响到定量分析的准确性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种分离峰的基线调整方法和一种具有基线调整功能的色谱工作站,能够减小对待测样品的分离峰进行定量分析时的误差,提高定量分析的准确性;同时,解决手动调节基线费时费力的问题。

本发明提供了一种分离峰的基线调整方法,包括如下步骤:

步骤a1,连接分离峰的起点和落点,形成预备基线;

步骤a2,判断所述分离峰与最新形成的预备基线之间是否存在基线贯穿,若是,则执行步骤a3,若否,则执行步骤a4;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州普源精电科技有限公司,未经苏州普源精电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310548546.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top