[发明专利]用于去除溶剂的装置和使用该装置的光刻装置

说明书

公开了一种溶剂去除装置。一方面包括室、第一泵、消音器、阀以及排放单元。室使形成在衬底上的涂层干燥。第一泵吸入从室的涂层气化的溶剂并排放气化的溶剂。消音器减小第一泵的排放噪声并容纳从第一泵提供的气化的溶剂的液化的溶剂。阀排放容纳在消音器中的液化的溶剂。排放单元排放从消音器提供的气化的溶剂。

技术领域

所公开的技术涉及用于去除溶剂的装置和使用该去除装置的光刻装置。

背景技术

显示设备或半导体设备包括设置在衬底上的图案。这些图案包括电极、布线、半导体沟道等。这些图案利用光刻工艺形成。

光刻工艺包括去除光刻胶中所包含的溶剂的工艺。利用溶剂去除装置执行溶剂去除工艺。当将辐射热施加至装载至室内的衬底时，光刻胶中的溶剂被气化，并且气化的溶剂被排放至室外部的环境。

气化的溶剂在被排放时被部分液化，并且液化的溶剂阻塞用于排放气化的溶剂的排放路径。因此，该溶剂去除装置失效。

发明内容

所公开的技术包括能够有效去除溶剂的溶剂去除装置。

所公开的技术还包括具有溶剂去除装置的光刻装置。

发明构思的一方面包括一种溶剂去除装置，其包括室、第一泵、消音器、阀以及排放单元。室配置成使形成在衬底上的涂层干燥。第一泵配置成吸入从室的涂层气化的溶剂并排放气化的溶剂。消音器配置成减小第一泵的排放噪声并容纳从第一泵提供的气化的溶剂的液化的溶剂。阀配置成排放容纳在消音器中的液化的溶剂。排放单元配置成排放从消音器提供的气化的溶剂。

在实施方式中，衬底用作显示面的一部分，并且涂层为光刻胶。

室包括：外壁、台、以及热源，其中外壁用于形成空间体积，台容纳在该空间体积中以支承衬底，热源被设置成朝向台并向涂层提供辐射热。

排放单元包括：过滤器和排放管，其中过滤器配置成去除从消音器提供的气化的溶剂中所包括的外来物质，排放管配置成将穿过过滤器的气化的溶剂引导至排放管外部。

溶剂去除装置还包括连接至消音器的第二泵，其中第二泵吸入消音器中所容纳的液化的溶剂并在阀被打开时排放被吸入的溶剂。

发明构思的另一方面包括一种光刻装置，其包括：清洁部，配置成清洁衬底；配置成在衬底上形成光刻胶的光刻胶形成部；配置成使光刻胶干燥以去除光刻胶中所包括的溶剂的溶剂去除部；配置成使被干燥的光刻胶曝光的曝光部，以及配置成使被曝光的光刻胶显影的显影部。溶剂去除部包括：室、第一泵、消音器、阀以及排放单元。

在实施方式中，光刻装置还包括转移部，转移部配置成将衬底从清洁部转移通过光刻胶形成部、溶剂去除部、以及曝光部而转移至显影部。

如上所述，从消音器排放积聚在消音器中的液化的溶剂，从而使得用于液化的溶剂穿过的排放路径基本没有被阻塞。因此，溶剂去除装置可正常操作和维护。

此外，由于溶剂去除装置作为光刻装置的一部分正常操作，所以使得光刻工艺更有效率。

附图说明

结合附图，通过参照以下详细描述，所公开技术的上述和其它优点将变得显而易见，在附图中：

图1是示出根据所公开技术的示例性实施方式的光刻装置的框图；

图2是示出光刻工艺的流程图；

图3是示出图1中所示的溶剂去除装置的框图；

图4是示出根据所公开技术的示例性实施方式的溶剂去除装置的一部分的剖视图；

图5是示出根据所公开技术的示例性实施方式的溶剂去除装置的另一部分的剖视图；