[发明专利]用于去除溶剂的装置和使用该装置的光刻装置

权利要求书

1.溶剂去除装置，包括：

室，配置成使形成在衬底上的涂层干燥，所述衬底设置在所述室中；

第一泵，配置成吸入从所述涂层气化的溶剂并排放该气化的溶剂；

消音器，配置成减少所述第一泵的排放噪声并容纳从所述第一泵提供的所述气化的溶剂的液化的溶剂；

阀，配置成排放容纳在所述消音器中的所述液化的溶剂；以及

排放单元，配置成排放从所述消音器提供的所述气化的溶剂。

2.如权利要求1所述的溶剂去除装置，其中所述衬底用作显示板的一部分。

3.如权利要求2所述的溶剂去除装置，其中所述涂层是光刻胶。

4.如权利要求1所述的溶剂去除装置，其中所述室包括：

外壁，用于形成空间体积；

台，容纳在所述空间体积中以支承所述衬底；以及

热源，设置成朝向所述台并向所述涂层提供辐射热。

5.如权利要求1所述的溶剂去除装置，其中所述排放单元包括：

过滤器，配置成去除包含在从所述消音器提供的所述气化的溶剂中的外来物质；以及

排放管，配置成将穿过所述过滤器的所述气化的溶剂引导至所述排放管的外部。

6.如权利要求1所述的溶剂去除装置，还包括连接至所述消音器的第二泵，其中所述第二泵吸入所述消音器中所容纳的所述液化的溶剂并在所述阀被打开时排放所吸入的液化的溶剂。

7.光刻装置，包括：

清洁部，配置成清洁衬底；

光刻胶形成部，配置成在所述衬底上形成光刻胶；

溶剂去除部，配置成使所述光刻胶干燥以去除所述光刻胶中所包括的溶剂；

曝光部，配置成使被干燥的光刻胶曝光；以及

显影部，配置成使被曝光的光刻胶显影，

所述溶剂去除部包括：

室，配置成使形成在衬底上的涂层干燥，所述衬底设置在所述室中；

第一泵，配置成吸入从所述涂层气化的溶剂并排放该气化的溶剂；

消音器，配置成减少所述第一泵的排放噪声并容纳从所述第一泵提供的所述气化的溶剂的液化的溶剂；

阀，配置成用于排放容纳在所述消音器中的所述液化的溶剂；以及

排放单元，配置成排放从所述消音器提供的所述气化的溶剂。

8.如权利要求7所述的光刻装置，其中所述衬底用作显示板的一部分。

9.如权利要求7所述的光刻装置，还包括转移部，所述转移部配置成将所述衬底从所述清洁部转移通过所述光刻胶形成部、所述溶剂去除部、以及所述曝光部而到达所述显影部。

10.如权利要求7所述的光刻装置，其中所述室包括：

外壁，用于形成空间体积；

台，容纳在所述空间体积中以支承所述衬底；以及

热源，设置成朝向所述台并向所述涂层提供辐射热。