[发明专利]用于导弹探测识别的大视场光学成像方法及其系统

权利要求书

1.一种用于导弹探测识别的大视场光学成像方法，其特征在于采用折反射式光学成像方法，包括如下步骤：将视场内光线成像于折叠平面反射镜，得到的成像光束反射后再进行滤光，经像差校正和聚焦成像，在CCD探测器的焦平面上得到光学像。

2.一种用于导弹探测识别的大视场光学成像系统，其特征在于它为折反射光学系统，采用同轴折射结构，沿光线入射方向的光学元件依次为：弯月形球面负透镜（1）、折叠平面反射镜（2）、折叠平面反射镜（3）、光学滤光片（4）、改进型的匹兹万结构物镜（5）、CCD保护玻璃（6）和像面（7），所有光学元件安装于同一个镜筒内；所述的改进型的匹兹万结构物镜用于对反射后再经滤光的成像光束进行像差校正和聚焦成像，改进型的匹兹万结构物镜包括第一双胶合透镜组（51）、第二双胶合透镜组（52）和一块弯月形球面透镜（53），所述的第一双胶合透镜组由正透镜（511）和负透镜（512）构成，第二双胶合透镜组由正透镜（521）和负透镜（522）构成，弯月形球面透镜（53）的弯曲方向为背向像面；所述弯月形球面负透镜、第一双胶合透镜组的正透镜和负透镜、第二双胶合透镜组的正透镜和负透镜、弯月形球面透镜的焦距，它们相对于大视场光学系统焦距的归一化值分别依次对应为f’₁、f’₅₁₁、f’₅₁₂、f’₅₂₁、f’₅₂₂、f’₅₃，满足条件-348≤f’₁≤-343、0.89≤f’₅₁₁≤0.92、-1.13≤f’₅₁₂≤-1.08、0.62≤f’₅₂₁≤0.65、-2.51≤f’₅₂₂≤-2.48、-1.14≤f’₅₃≤-1.09；它们所用材料的折射率分别依次对应为n₁、n₅₁₁、n₅₁₂、n₅₂₁、n₅₂₂、和n₅₃，满足条件1.45≤n₁≤1.56、1.45≤n₅₁₁≤1.56、1.73≤n₅₁₂≤1.78、1.60≤n₅₂₁≤1.65、1.72≤n₅₂₂≤1.77、1.71≤n₅₃≤1.76。

3.根据权利要求2所述的一种用于导弹探测识别的大视场光学成像系统，其特征在于：它的焦距f为18mm≤ f ≤21mm。

4.根据权利要求2所述的一种用于导弹探测识别的大视场光学成像系统，其特征在于：它的视场ω为0°≤ω≤25°。

5.根据权利要求1所述的一种用于导弹探测识别的大视场光学成像系统，其特征在于：它的镜筒长度L为127mm≤L≤131mm。

6.根据权利要求1所述的一种弹载探测识别用的大视场光学系统，其特征在于：它的杂光系数η为0.35%≤η≤0.75%。