[发明专利]磁力真空吸附平台

说明书

 

技术领域

本发明涉及精密加工行业，尤其是涉及一种磁力真空吸附平台。

 

背景技术

在精密加工行业中，常需要加工一些厚度较薄的平板结构，这时需要将此类平板结构夹持在加工平台上，传统的机械夹持方法难以有效的保证此类平板结构的平整度，由此出现了传统的真空吸附平台，其依靠产生的真空吸附力将此类工件吸住，有效的解决了传统机械夹持机构解决不了问题，但随着技术的发展，产生了一些较硬的薄膜类工件材质，在前期加工中自身翘曲变形量可能会很大，单靠真空吸附平台产生的负压以难以将工件吸平，由此会造成后期的加工出现精度和各种质量问题，因此需要寻找一种新的夹持方法，解决这一问题。

 

发明内容

有鉴于此，需要克服现有技术中的上述缺陷中的至少一个。本发明提供了一种磁力真空吸附平台，该装置可以产生真空吸附力和依靠外部的铁质或磁力结构和该装置的磁性体产生的磁力同时对上述材质工件施加作用，使其表面平整度达到预期效果。

根据本发明的一种磁力真空吸附平台，包括两层平板结构，一层为POM材料平板，另一层为铝合金平板，所述POM材料平板安装在所述铝合金平板上方，所述POM材料平板上设有安装磁性体的磁力孔以及用于产生真空吸附力的POM板真空吸附孔，所述磁力孔中安装有磁性体；

所述铝合金平板上设有用于产生真空吸附力的铝合金板真空吸附孔，所述POM板真空吸附孔与所述铝合金板真空吸附孔一一对应且中轴线重合，且当所述POM材料平板和所述铝合金平板贴合安装后，所述POM板真空吸附孔与所述铝合金板真空吸附孔为不产生漏气的紧密结合结构。

根据本专利背景技术中对现有技术所述，随着技术的发展，产生了一些较硬的薄膜类工件材质，在前期加工中自身翘曲变形量可能会很大，单靠真空吸附平台产生的负压以难以将工件吸平，由此会造成后期的加工出现精度和各种质量问题；而本发明公开的磁力真空吸附平台,由于可以产生真空吸附力和依靠外部的铁质或磁力结构和该装置的磁性体产生的磁力同时对上述材质工件施加作用，使其表面平整度达到预期效果。

另外，根据本发明公开的磁力真空吸附平台还具有如下附加技术特征：

可选地，所述POM材料平板为方形结构。

可选地，所述铝合金平板为方形结构。

进一步地，所述磁力孔为阵列分布。

进一步地，所述POM板真空吸附孔为阵列分布。

进一步地，所述铝合金板真空吸附孔为阵列分布。

阵列型分布可以使的吸附力更加均匀，对于平板的表面平整度有着更好的效果。

可选地，所述磁力孔或所述POM板真空吸附孔或所述铝合金板真空吸附孔或所述磁性体为圆形。

进一步地，所述磁性体和所述磁力孔为配合结构或粘合结构。

本发明附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。

 

附图说明

本发明的上述和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1显示了本发明的磁力真空吸附平台的俯视示意图；

图2显示了本发明的磁力真空吸附平台局部放大图；

图3显示了本发明的磁力真空吸附平台正视图。

 

图中，1为POM材料平板，11为螺栓孔。12为磁力孔，13为POM板真空吸附孔，2为铝合金平板。

 

具体实施方式

下面详细描述本发明的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本发明，而不能解释为对本发明的限制。

此处，需要说明的是，在本发明的描述中，需要理解的是，方位术语如 “上”、“下”、“底”、“顶”、“前”、“后”、“内”、“外”、“横”、“竖”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。