[发明专利]防尘薄膜组件有效
| 申请号： | 201310483487.9 | 申请日： | 2013-10-16 |
| 公开（公告）号： | CN103728829B | 公开（公告）日： | 2016-11-02 |
| 发明（设计）人： | 关原一敏 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64 |
| 代理公司： | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人： | 胡强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 防尘 薄膜 组件 | ||
【权利要求书】：
1.一种防尘薄膜组件，其防尘薄膜组件框架为具有内框及外框的双重结构，所述内框在将防尘薄膜绷紧设置加以保持的同时具有掩模粘着层，其特征在于，所述外框在与所述内框密切接着的同时可从所述内框上分离。
2.根据权利要求1所述的防尘薄膜组件,其特征在于，所述内框和外框用螺纹连接装置进行连接。
3.根据权利要求1所述的防尘薄膜组件，其特征在于，所述内框和外框用磁力连接装置进行连接。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的防尘薄膜组件，其特征在于，在防尘薄膜组件贴附时，仅对防尘薄膜组件框架的所述内框进行加压。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的防尘薄膜组件，其特征在于，在防尘薄膜组件贴附后，将防尘薄膜组件框架的所述外框卸下，在光掩膜上仅有将防尘薄膜绷紧设置保持的所述内框存在。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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