[发明专利]一种甚大规模集成电路版图层次比较工具的单元切分预处理方法有效

专利信息
申请号: 201310478185.2 申请日: 2013-10-14
公开(公告)号: CN104572658B 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 戴斌华;于士涛;王国庆;路艳芳 申请(专利权)人: 北京华大九天软件有限公司
主分类号: G06F17/30 分类号: G06F17/30
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100102 北京*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 甚大规模集成电路 预处理 大单元 层次版图 子单元 半导体集成电路 差异比较 原始数据 块数据 伪单元 小单元 清空 引用 转换
【权利要求书】:

1.一种集成电路版图层次比较工具的单元切分预处理方法,将层次版图中降低了比较效率的大单元转换为多个小单元,提高了层次版图差异比较的效率,其特征在于:

对版图中的每个大单元在X方向和Y方向同时作切分;根据所述大单元的大小决定X和Y方向切分线的总数Nx和Ny;切分为(Nx+1)×(Ny+1)块数据,对应的新建(Nx+1)×(Ny+1)个伪子单元,将每块数据存入所述伪子单元中;将所述大单元中的原始数据清空,重新插入(Nx+1)×(Ny+1)个引用伪子单元实例;

对大单元做切分时,切分图形的步骤为:当图形不跨越任何切分线时,直接放入对应的伪子单元中;当图形跨越多个切分线时,将该图形与切分线围成的矩形区域做几何AND操作进行切割,该图形被切割后的各部分图形,放入对应的伪子单元中。

2.根据权利要求1所述的一种集成电路版图层次比较工具的单元切分预处理方法,其特征在于,所述对大单元做切分时,确定切分线的步骤为:根据引用伪子单元实例的边框的X,Y坐标,生成X和Y方向的候选切分线,接着给每个切分线赋予权重,选出权重最小的且满足最小间距的Nx或Ny个切分线作为最终的切分线。

3.根据权利要求1所述的一种集成电路版图层次比较工具的单元切分预处理方法,其特征在于,所述对大单元做切分时,引用伪子单元实例的步骤为:当某个引用伪子单元实例不跨越任何切分线,直接放入对应的伪子单元中;当某个引用伪子单元实例跨越一个或多个切分线时,选取与该引用伪子单元实例重叠区域最大的伪子单元作为目标伪子单元,将该引用伪子单元实例放入。

4.根据权利要求2所述的一种集成电路版图层次比较工具的单元切分预处理方法,其特征在于,所述给每个切分线赋予权重的步骤为:①穿越引用伪子单元实例内部的切分线比经过引用伪子单元实例边界权重大;②穿越大引用伪子单元实例的切分线比穿越小的引用伪子单元实例权重大;③各引用伪子单元实例的权重值等于引用伪子单元实例所引用的单元内图形和引用伪子单元实例总数。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京华大九天软件有限公司,未经北京华大九天软件有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310478185.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top