[发明专利]一种后处理制备光滑腐蚀光纤表面的方法无效

专利信息
申请号: 201310466021.8 申请日: 2013-10-08
公开(公告)号: CN103553367A 公开(公告)日: 2014-02-05
发明(设计)人: 刘锐;闫大鹏;李成;施建宏 申请(专利权)人: 武汉锐科光纤激光器技术有限责任公司
主分类号: C03C25/68 分类号: C03C25/68
代理公司: 武汉开元知识产权代理有限公司 42104 代理人: 唐正玉
地址: 430223 湖北省武汉市东湖新*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 处理 制备 光滑 腐蚀 光纤 表面 方法
【权利要求书】:

1.一种后处理制备光滑腐蚀光纤表面的方法,其特征在于包括有以下步骤:

1)以普通光纤为原材料,通过质量浓度为98.0%的硫酸溶液腐蚀掉光纤表面的涂覆层,得到裸露光纤;

2)将步骤1)制备的裸露光纤置于摩尔浓度为1.0mol L-1的Na2CO3溶液中,超声处理30s,除去光纤表面混有的H2SO4溶液后取出,再将经Na2CO3溶液洗后的光纤置于去离子水中超声处理30s,除去光纤表面可能混有的Na2CO3

3)将步骤2)处理后的裸露光纤置于质量浓度5.0-60.0%的HF溶液中进行腐蚀,腐蚀时间0.8-11.0h,得到具有粗糙腐蚀表面的光纤;

4)把步骤3)制备的具有粗糙腐蚀表面的光纤置于50.0mL摩尔浓度为0.01-2.00mol L-1的Na2CO3溶液中,搅拌1-20min后,于温度20-90℃下超声处理2-40min;

5)将经步骤4)处理后具有光滑腐蚀表面的光纤置于去离子水中超声30s,以除去光纤表面混有的Na2CO3溶液,并将取出的光纤通风干燥,即得到具有光滑腐蚀表面的光纤。

2.根据权利要求1所述的后处理制备光滑腐蚀光纤表面的方法,其特征在于:所述光纤为单模光纤、多模光纤的一种。

3.根据权利要求1所述的后处理得到光滑腐蚀光纤表面的方法,其特征在于:腐蚀光纤的HF溶液质量浓度为5.0-40.0%。

4.根据权利要求1所述的后处理得到光滑腐蚀光纤表面的方法,其特征在于:Na2CO3溶液的摩尔浓度为0.05-1.50mol L-1

5.根据权利要求1所述的后处理得到光滑腐蚀光纤表面的方法,其特征在于:经HF溶液腐蚀后的光纤和Na2CO3溶液混合后的搅拌时间为2-15min。

6.根据权利要求1所述的后处理得到光滑腐蚀光纤表面的方法,其特征在于:腐蚀光纤和Na2CO3溶液混合后超声温度为30-60℃。

7.根据权利要求1所述的后处理得到光滑腐蚀光纤表面的方法,其特征在于:腐蚀光纤和Na2CO3溶液混合后超声时间为5-35min。

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